澤攸科技文章

• 澤攸科技 | EBL和EUV光刻機有何區(qū)別？如何影響半導體行業(yè)？2026-01-06 16:49

  

  從技術路徑上看，電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫入技術，利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點曝光，通過電磁控制精確描繪圖形。這種方式不依賴掩模，在設計頻繁迭代的研發(fā)階段非常有優(yōu)勢，尤其適合量子器件、新型材料結構、原型芯片以及掩模制作等場景。

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• 澤攸科技 | 臺階儀：微觀形貌的精密解析工具 —— 原理、技術與產(chǎn)業(yè)化應用2025-08-19 10:31

  

  在精密制造與前沿科研領域，微觀表面形貌的量化表征是保障產(chǎn)品性能與推動技術創(chuàng)新的關鍵環(huán)節(jié)。臺階儀作為一種高精度表面測量儀器，通過對樣品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等參數(shù)的精確獲取，為半導體、納米材料、光學工程等領域提供了不可或缺的技術支撐。

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• 澤攸科技 | 電子束光刻（EBL）技術介紹2025-08-14 10:07

  

  電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進行納米級圖案直寫。

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• 澤攸科技 | 國產(chǎn)臺階儀和進口臺階儀相比，各有什么優(yōu)勢？2025-08-14 09:56

  

  在全球精密測量設備市場中，臺階儀作為微納形貌檢測的核心工具，長期被進口品牌主導。然而，隨著國產(chǎn)技術的突破，以澤攸科技為代表的國產(chǎn)臺階儀憑借“高精度、高性價比、強服務”等優(yōu)勢，正加速搶占市場。

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