KRI 考夫曼離子源真空鍍膜離子源

離子源

型號： KDC 160

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

產(chǎn)地美國
類型考夫曼型號
品牌 KRi

--- 產(chǎn)品詳情 ---

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準
KRI 考夫曼離子源 KDC 160
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列最大,離子能量最強的柵極離子源, 適用于已知的所有離子源應用, 離子源 KDC 160 高輸出設計,最大電流超過 1000 mA. 無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設計,標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 800 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數(shù)

* 可選: 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 應用領域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE

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