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制卡工藝簡介

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2019-05-12 09:56:5930084

陶瓷PCB基板制造工藝簡介

在薄膜工藝中,基于薄膜電路工藝,陶瓷表面通過磁控濺射金屬化,銅層和金層的厚度大于10通過電鍍測微計。也就是說,DPC(直板銅)。
2019-07-31 11:39:1815596

微雪電子Micro SD 存儲模塊簡介

Micro SD存儲模塊 支持插入TI 支持SDIO及SPI接口 接口規(guī)格為PIN間距2.54mm排針 型號 Micro SD Storage Board
2019-11-12 16:41:203630

微雪電子SD存儲模塊簡介

TF擴(kuò)展模塊 SD存儲模塊 支持SDIO及SPI接口 支持Micro SD Card及SD Card 型號 SD Storage Board
2019-12-30 09:30:112278

dfrobotMicroSD 讀卡器模塊簡介

Micro SD(TF)的體積為 15mm x 11mm x1mm ,差不多相等于手指甲的大小,是現(xiàn)時最細(xì)小的記憶。
2019-12-19 10:10:141356

dfrobot川宇C289TF/MicroSD讀卡器簡介

本產(chǎn)品可用于讀取TF及MicroSD,采用USB2.0接口,兼容性高,傳輸速度快,小巧便攜,即插即用。 技術(shù)規(guī)格
2020-01-02 10:08:282656

半導(dǎo)體生產(chǎn)封裝工藝簡介

工藝。典型的封裝工藝流程為:劃片 裝片 鍵合 塑封 去飛邊 電鍍 打印 切筋和成型 外觀檢查 成品測試包裝出貨。 半導(dǎo)體封裝是指將通過測試的晶圓按照產(chǎn)品型號及功能需求加工得到獨立芯片的過程。封裝過程為:來自晶圓前道工藝的晶圓通過劃片工藝后被切割為小的晶片(Die),然后
2020-03-27 16:40:069622

LCD的簡介工藝流程詳細(xì)資料說明

本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是LCD的簡介工藝流程詳細(xì)資料說明。
2020-05-09 08:00:0030

SD簡介和操作資料概述

SD使用內(nèi)智能控制模塊進(jìn)行FLASH操作控制,包括協(xié)議、安全算法、數(shù)據(jù)存取、ECC算法、缺陷處理和分析、電源管理、時鐘管理。
2020-06-04 08:00:000

S50非接觸式IC的詳細(xì)資料簡介

本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是S50非接觸式IC的詳細(xì)資料簡介。
2020-09-09 15:33:0020

典型的MEMS工藝流程的簡介

MEMS表面微機(jī)械加工工藝是指所有工藝都是在圓片表面進(jìn)行的MEMS制造工藝。表面微加工中,采用低壓化學(xué)氣相淀積(LPCVD)這一類方法來獲得作為結(jié)構(gòu)單元的薄膜。表面微加工工藝采用若干淀積層來制作結(jié)構(gòu)
2021-02-11 17:38:0010409

覆銅基板工藝流程簡介

覆銅基板工藝流程簡介
2021-12-13 17:13:500

透明封裝工藝簡介

了解封裝設(shè)備的原理,有助于設(shè)備的選型及灌膠工藝的深入了解,中匯翰騎小編給大家簡單介紹下透明屏的封裝工藝; SMD表貼工藝技術(shù) SMD:它是Surface Mounted Devices的縮寫,意為
2021-12-15 17:41:452887

STM32CubeMX系列|SD

SD1.SD簡介2. 硬件設(shè)計3. 軟件設(shè)計3.1 STM32CubeMX設(shè)置3.2 MDK-ARM編程4. 下載驗證
2021-12-31 19:22:2022

Parametric 系列 Pyramid 探針的主要特征

先進(jìn)工藝參數(shù)測試要求。與傳統(tǒng)技術(shù)的探針相比,F(xiàn)ormFactor 的創(chuàng)新型 PyramidPlus? 制造工藝可提供較好的信號完整性和更快的穩(wěn)定時間,幫助客戶大幅度降低芯片的測試
2022-06-13 10:06:36780

等離子去膠新工藝簡介

目前,在國內(nèi)外半導(dǎo)體器件制造工藝中,用等離子去膠工藝代替常規(guī)化學(xué)溶劑去膠及高溫氧氣去膠已獲得顯著效果,越來越引起半導(dǎo)體器件制造者的重視。由于該工藝操作簡便、成本低、可節(jié)約大量的化學(xué)試劑、對器件參數(shù)
2022-08-15 15:32:112638

乙烯裝置工藝流程簡介

? 乙烯裝置工藝流程簡介 01 工藝裝置 –1.乙烯裝置(Steam Cracker)? –2.C4選擇性加氫和烯烴轉(zhuǎn)化(SHU/OCU) –3.汽油加氫裝置(GTU or DPG) 02 附屬裝置
2023-05-31 10:22:092780

PDS工藝和低溫導(dǎo)電銀漿簡介

PDS工藝和低溫導(dǎo)電銀漿簡介PDS就是PrintingDirectStructure英語單詞的縮寫,翻譯過來就是直接移印工藝。PDS工藝是一種在產(chǎn)品上直接印刷Pattern的新MID工藝技術(shù)。在成型
2022-05-18 19:06:073118

工業(yè)閃存:CF、SD、TF

工業(yè)閃存有很多種類,常見的有CF、SD、MMC、記憶棒、SM、xD、TF
2023-10-25 15:53:533829

雙極型工藝制程技術(shù)簡介

本章主要介紹了集成電路是如何從雙極型工藝技術(shù)一步一步發(fā)展到CMOS 工藝技術(shù)以及為了適應(yīng)不斷變化的應(yīng)用需求發(fā)展出特色工藝技術(shù)的。
2024-07-17 10:09:503052

HV-CMOS工藝制程技術(shù)簡介

BCD 工藝制程技術(shù)只適合某些對功率器件尤其是BJT 或大電流 DMOS 器件要求比較高的IC產(chǎn)品。BCD 工藝制程技術(shù)的工藝步驟中包含大量工藝是為了改善 BJT 和 DMOS 的大電流特性,所以它
2024-07-22 09:40:326760

T113-S3核心板之啟動與量產(chǎn)TF制作

中的固件燒寫至設(shè)備中,極大提高生產(chǎn)效率。無論是量產(chǎn)還是啟動,都有其特定的應(yīng)用場景和作用。讓我們一起學(xué)習(xí)下這兩種方式的制作與使用。產(chǎn)品簡介眺望電子EVM-T11
2024-11-15 01:06:344120

接觸孔工藝簡介

本文主要簡單介紹探討接觸孔工藝制造流程。以55nm接觸控工藝為切入點進(jìn)行簡單介紹。 ? 在集成電路制造領(lǐng)域,工藝流程主要涵蓋前段工藝(Front End of Line,F(xiàn)EOL)與后段工藝
2025-02-17 09:43:282173

智能IC可以做什么工藝呢?

1、IC可以根據(jù)客戶提供的素材進(jìn)行版面設(shè)計,也可由客戶提供設(shè)計稿2、IC的厚度從0.5mm到2mm,一般國際標(biāo)準(zhǔn)厚度0.84MM3、IC的標(biāo)準(zhǔn)大小是85.5mmX54mm,圓角104、IC
2025-04-01 14:51:48753

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