三星部署擴(kuò)展EUV光刻工藝，爭取提高性能
繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。
按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，也比其它廠商掌握更多訣竅，領(lǐng)先對手1到2年。
據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。
盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過少對效率提升并不明顯，也就是單位成本高，畢竟EUV光刻機(jī)買一臺(tái)要10億元。三星這方面倒是有優(yōu)勢，因?yàn)樽约哼€有晶圓廠，“東方不亮西方亮”光刻機(jī)的利用率很高。
責(zé)編AJX
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