制造芯片需要用到光刻技術(shù)，一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。光刻機(jī)是其中的關(guān)鍵系統(tǒng)，又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。生產(chǎn)芯片就像沖印照片，光線通過模板聚焦在晶圓表面，晶圓表面的保護(hù)膜隨光發(fā)生變化，通過腐蝕變化后的部分，剩下的部分就形成電路。

光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，整個(gè)設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)，如德國的光學(xué)設(shè)備、美國的計(jì)量設(shè)備等，可以說是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”，被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。

當(dāng)前，全球最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)只有荷蘭的ASML生產(chǎn)，占據(jù)了光刻機(jī)市場(chǎng)高達(dá)80%的市場(chǎng)。Intel、臺(tái)積電、三星的光刻機(jī)都來自于與ASML。當(dāng)然，最頂尖的光刻機(jī)不是荷蘭一個(gè)公司制造的，而是集合了許多國家最先進(jìn)技術(shù)的技術(shù)支持，可以說是多個(gè)國家國家共同努力的結(jié)果，比如德國的光學(xué)鏡頭、美國的計(jì)量設(shè)備等。ASML將這些來自不同國家的3萬多個(gè)配件，分為13個(gè)系統(tǒng)，需要將誤差分散到13個(gè)系統(tǒng)，如果德國的光學(xué)設(shè)備做的不準(zhǔn)、美國的光源不準(zhǔn)，那么ASML也無法制造出精密的光刻機(jī)。

我國光刻技術(shù)比較先進(jìn)，上海微電子設(shè)備有限公司已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了90nm的批量生產(chǎn)。目前，65nm技術(shù)正在研究中。其他包括合肥新碩半導(dǎo)體有限公司、仙騰光電科技有限公司、無錫英蘇半導(dǎo)體科技有限公司等企業(yè)，在光刻方面有自己的成就。然而，這些光刻企業(yè)仍在原有的道路上一步步前進(jìn)。我們相信只要我們努力，我們就能在未來達(dá)到一個(gè)很高的水平。但對(duì)于平版印刷行業(yè)來說，雖然他們的追趕速度很快，但技術(shù)進(jìn)步的速度也很快。因此，他們只能在低端保持一定的市場(chǎng)份額。

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審核編輯 ：李倩