ASML的High-NA光刻機(jī)居然只賣出5臺，大多芯片廠商不為所動
在電子化程度如此高的現(xiàn)在，人們身邊的電子設(shè)備比比皆是，而它們又都離不開芯片。現(xiàn)在芯片制程技術(shù)也處于飛速發(fā)展的階段，芯片巨頭臺積電和三星都將在今年下半年開始量產(chǎn)3nm制程芯片，2024或2025年實(shí)現(xiàn)2nm制程的量產(chǎn)。
目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī)，而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm，也就是說，再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來完成。
ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠?qū)⒊叽缃档?6%，如此一來芯片的制程又能繼續(xù)往前邁步，這種新型光刻機(jī)被認(rèn)為是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵。
目前EUV光刻機(jī)處于供不應(yīng)求的狀態(tài)，按道理來說更加先進(jìn)的High-NA光刻機(jī)應(yīng)該更加搶手才對，不過奇怪的是，ASML表示已經(jīng)收到了來自5家客戶的5個High-NA光刻機(jī)訂單，High-NA光刻機(jī)貌似沒有想象中的那么火爆。不過這還是連3nm都沒有跨入的時代，可能有些廠商不愿過早購買昂貴的新型光刻機(jī)，包括將3nm制程作為重點(diǎn)發(fā)展的臺積電也是一樣。
綜合整理自 笨鳥科技 簡叔 百家眾神
審核編輯 黃昊宇
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1201瀏覽量
49006 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
738瀏覽量
43628
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）芯片，一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠，還需要
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問題？ 針對2nm、3nm
壟斷 EUV 光刻機(jī)之后，阿斯麥劍指先進(jìn)封裝
能量產(chǎn) EUV 光刻機(jī)的廠商，早已憑借這一壟斷地位，深度綁定臺積電等頭部芯片制造商，左右著全球最先進(jìn) AI 芯片的產(chǎn)能與迭代節(jié)奏。如今，這家
EUV光源重大突破！ASML：芯片產(chǎn)量將提升50%
紫外光刻（EUV）設(shè)備的公司。EUV設(shè)備堪稱芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)計(jì)算芯片的“神器”，像臺積電、英特爾等行業(yè)巨頭都高度依賴它。EUV光刻機(jī)是以1
【「芯片設(shè)計(jì)基石——EDA產(chǎn)業(yè)全景與未來展望」閱讀體驗(yàn)】跟著本書來看EDA的奧秘和EDA發(fā)展
EDA更是更重要的卡脖子的基礎(chǔ)技術(shù)。 所以第一章以中興事件和華為事件為背景，引出了”芯片卡脖子引發(fā)對EDA的重視”。不是芯片行業(yè)的人可能只聽說過光刻機(jī)很重要，只有從事
發(fā)表于 01-21 22:26
光刻機(jī)的“精度錨點(diǎn)”：石英壓力傳感器如何守護(hù)納米級工藝
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
系列。該系列產(chǎn)品主要面向mini/micro LED光電器件、光芯片、功率器件等化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域，可靈活適配硅片、藍(lán)寶石、SiC等不同襯底材料，滿足多樣化的膠厚光刻工藝需求。 WS180i系列光刻機(jī)優(yōu)勢顯著。其晶圓覆蓋范圍廣，可
【「AI芯片：科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)
%。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的
發(fā)表于 09-15 14:50
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進(jìn)光刻機(jī)交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ?
發(fā)表于 08-13 09:41
?2549次閱讀
光刻機(jī)實(shí)例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備
光刻機(jī)
jf_90915507
發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57
佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠，主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA
發(fā)表于 06-29 06:39
?2139次閱讀
ASML杯光刻「芯 」勢力知識挑戰(zhàn)賽正式啟動
ASML光刻「芯」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起，是一項(xiàng)面向中國半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領(lǐng)
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
評論