眾所周知，光刻機(jī)一直處于壟斷地位，在光刻機(jī)領(lǐng)域，最有名的就是ASML公司了。

如今最先進(jìn)的光刻機(jī)是600系列，光刻機(jī)最高的制作工藝可以達(dá)到90納米。但是相比于荷蘭ASML公司旗下的EUV光刻機(jī)，最高可以達(dá)到5納米的工藝制作。

而且即將推出3納米工藝制作的芯片。但是據(jù)相關(guān)信息透露，預(yù)計(jì)我國(guó)第一臺(tái)28納米工藝的國(guó)產(chǎn)沉浸式光刻機(jī)即將交付。盡管國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)仍與ASML的EUV光刻機(jī)還有很大的距離，雖然起步晚，但是國(guó)人的不斷努力，仍會(huì)彎道超車。

截止2022年6月，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)已經(jīng)能夠加工13 納米線條。而我們?nèi)祟惖念^發(fā)絲直徑大約是 50~70微米，也就是說，光刻可以刻畫出只有頭發(fā)絲直徑1/5000的線條。

據(jù)報(bào)道上海微電子研發(fā)出的28納米國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)整機(jī)已經(jīng)安排生產(chǎn)，再過一兩年一定能用于國(guó)產(chǎn)芯片的生產(chǎn)，而且，按中芯國(guó)際梁孟松在2020年就說到的，一定能用于規(guī)模量產(chǎn)7納米芯片。

光刻機(jī)的生產(chǎn)國(guó)家有荷蘭、中國(guó)、日本、美國(guó)、韓國(guó)，其中荷蘭光刻機(jī)的精度為首。

光刻機(jī)是一個(gè)制造芯片的機(jī)器，芯片上的圖形模板（微電路）需要用機(jī)器來(lái)雕刻。這就是光刻機(jī)的基本原理，利用高級(jí)技術(shù)去制造芯片。又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

文章綜合文學(xué)小百靈、螳臂推車、科技老番茄、情聲課堂

編輯：黃飛