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碳化硅和氮化鎵的區(qū)別

張鵬 ? 來源:gvjhvbc ? 作者:gvjhvbc ? 2022-08-08 10:14 ? 次閱讀
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SiC 和 GaN 被稱為“寬帶隙半導體”(WBG),因為將這些材料的電子從價帶炸開到導帶需要能量:而在硅的情況下,這種能量為 1.1eV,它是SiC(碳化硅)為 3.3eV,GaN(氮化鎵)為 3.4eV。這導致更高的適用擊穿電壓,在某些應用中可以達到 1200-1700V。由于使用的生產(chǎn)工藝,WBG 設備顯示出以下優(yōu)點:

極低的內(nèi)阻,與硅等效器件相比,可將效率提高多達 70%

電阻提高了熱性能(隨著最高工作溫度的增加)和散熱,以及可獲得的功率密度

散熱優(yōu)化允許使用更簡單的封裝,與等效的硅相比,顯著減小尺寸和減輕重量

非常短的關斷時間(在 GaN 的情況下接近于零)允許使用非常高的開關頻率以及達到的較低溫度

經(jīng)典電力電子設備中使用的所有類型的器件都可以使用 WBG 器件制造。此外,經(jīng)典的硅器件在許多應用領域已經(jīng)達到了極限。鑒于這些前提,很明顯 WBG 技術(shù)是電力電子未來的基礎,并為各種應用領域的新可能性奠定了基礎。

碳化硅和氮化鎵的區(qū)別

根據(jù)應用類型所需的功率和頻率性能,每種類型的器件,包括硅器件和新型 WBG,都有其市場份額。

盡管在概念層面上有相似之處,但 SiC 和 GaN 組件不能相互互換,而是根據(jù)它們在其中運行的系統(tǒng)中的使用參數(shù)而有所不同。

尤其是SiC器件可以 承受更高的電壓,高達1200V甚至更高,而GaN器件可以承受更低的電壓和功率密度;另一方面,由于 GaN 器件幾乎為零的關斷時間(高電子遷移率,與 MOSFET Si 的 50V/s 相比,因此 dV/dt 大于 100V/s),這些可以用于非常高頻應用,具有前所未有的效率和性能。這種理想的正特性可能會被證明是不方便的:如果組件的寄生電容不接近于零,則會產(chǎn)生數(shù)十安培數(shù)量級的電流尖峰,這可能會導致電磁兼容性測試階段出現(xiàn)問題。

由于采用 TO-247 和 TO-220 的可能性,碳化硅在所使用的封裝上具有更多優(yōu)勢,這允許用新的碳化硅快速替換 IGBT 和 MOSFET,而 GaN 用 SMD 封裝(更輕、更耐用)提供更好的結(jié)果。小但降級到新項目)。

另一方面,這兩種器件的共同挑戰(zhàn)與柵極驅(qū)動器的設計和構(gòu)造有關,能夠充分利用特定組件的特性,注意寄生組件(必須在以避免較弱的性能)和適用電壓的水平(希望類似于用于驅(qū)動經(jīng)典硅組件的電壓)。

在成本方面,SiC 器件現(xiàn)在更便宜、更受歡迎,這也是因為它們是在 GaN 之前制造的。然而,不難想象,成本只是部分與生產(chǎn)過程和市場需求有關,這就是為什么市場上的價格可能會趨于平緩。

由于 GaN 襯底的生產(chǎn)成本較高,因此使用GaN “通道”的器件具有 Si 襯底。最近幾個月,瑞典林雪平大學與其衍生的 SweGaN 大學合作,根據(jù)使用 SiC 襯底和新的晶圓生長工藝(稱為變形異質(zhì)外延,可防止結(jié)構(gòu)缺陷的存在)的想法進行了一些研究,從而獲得與 SiC 器件相當?shù)淖畲箅妷海軌蛟?Si 上的 GaN 頻率下工作。這項研究還強調(diào)了采用這種機制如何能夠改進熱管理、超過 3kV 的垂直擊穿電壓以及與當今的解決方案相比小于一個數(shù)量級的導通狀態(tài)電阻。

應用和市場

WBG 設備的應用領域仍然是一個利基市場,研發(fā)部門仍然需要更好地了解如何充分發(fā)揮其潛力。最大的新技術(shù)市場是二極管市場,但預計 WBG 將在未來 5 年內(nèi)充斥晶體管市場。

可能的應用已經(jīng)開始被假設,預測顯示電動汽車、電信和消費市場是最有可能的。

根據(jù)銷售預測,最賺錢的市場將是電動汽車和自動駕駛汽車,其中WBG將用于逆變器、車載充電設備(OBC)和防撞系統(tǒng)(LiDAR),這是顯而易見的,鑒于新設備的熱特性和效率與優(yōu)化蓄電池性能的要求相匹配。

在電信方面,5G的作用將成為WBG的驅(qū)動力,其將安裝的數(shù)百萬個站點需要更高的能效,并且也將變得更小、更輕,在性能和成本上有顯著提升。

消費市場也將涉及新設備的大量使用。由于移動設備的不斷普及以及快速充電的需求,無線電源和充電設備將主要受到影響。

碳化硅和氮化鎵器件

英飛凌開發(fā)了多種 SiC 和 GaN MOSFET 器件及其驅(qū)動器,即 CoolSiC 和 CoolGaN 系列。值得注意的是 FF6MR12W2M1_B11 半橋模塊,它能夠在 1200V 下提供高達 200A 的電流,RDS(on) 電阻僅為 6mΩ。該模塊配備兩個 SiC MOSFET 和一個 NTC 溫度傳感器,適用于 UPS 和電機控制應用,注重效率和散熱(圖 1)。

Microsemi 目錄(現(xiàn)為 Microchip Technology)中有一個類似的解決方案,帶有 Phase Leg SiC MOSFET 模塊,它使用 SP6LI 器件系列,并允許電壓高達 1700V 和電流大于 200A;AlN 襯底確保更好的熱管理,兩個 SiC 肖特基二極管允許增加開關頻率。

Wolfspeed 憑借其 CAB450M12XM3 與市場保持同步,該半橋器件能夠管理高達 1200V 的電壓和 450A 的電流,由于使用了具有 SiN 襯底的第三代 MOSFET,因此適合在高達 175°C 的溫度下連續(xù)工作.

在查看 GaN 世界時,很明顯可用的各種設備是有限的。GanSystem 在其產(chǎn)品目錄中提供了 GS-065-150-1-D,這是一種利用專利島技術(shù)的晶體管,能夠在大于 10MHz 的開關頻率下管理高達 650V 和 150A 的電壓。

最后,憑借將于 2020 年中期面世的 TP90H050WS FET,Transphorm 正在開發(fā)使用 TO-247 封裝的 GaN 器件,其工作電壓可達到 900V,上升和下降時間約為 10nS(圖 2)。

圖 1:FF6MR12W2M1_B11 半橋模塊

圖 2:TP90H050WS FET

審核編輯:湯梓紅

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