其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例,這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時代,不僅需要EUV光刻機(jī),更需要EUV光刻膠的參與。但在過去 國內(nèi)長期依賴進(jìn)
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:00
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*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備,尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同?能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問題? 針對2nm、3nm芯片制造難題,光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML新款光刻機(jī)又能帶來哪些優(yōu)勢?本文進(jìn)行詳細(xì)分析。
2025-07-24 09:29:39
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致力于提供高品質(zhì)汽車驅(qū)動芯片和高品質(zhì)信號鏈芯片供應(yīng)商上海類比半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(下稱“類比半導(dǎo)體”或“類比”)宣布全新第二代高邊開關(guān)芯片HD80152和SPI高邊HD708204量產(chǎn)。自
2026-01-05 17:57:12
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的關(guān)鍵。無錫迪仕科技推出的全極性微功耗霍爾開關(guān)DH629,以三大技術(shù)優(yōu)勢重新定義了行李箱的智能化標(biāo)準(zhǔn),推動行業(yè)進(jìn)入第二代技術(shù)迭代階段。 一、技術(shù)革新:DH629的核心突破 DH629作為專為移動設(shè)備設(shè)計的第二代霍爾元件,其技術(shù)參數(shù)
2026-01-05 15:00:12
61 新品CoolSiCMOSFET400V與440V第二代器件CoolSiCMOSFET400V與440V第二代器件兼具高魯棒性、超低開關(guān)損耗與低通態(tài)電阻等優(yōu)勢,同時有助于優(yōu)化系統(tǒng)成本。該系列400V
2025-12-31 09:05:13
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AMD Power Design Manager 2025.2 版本現(xiàn)已發(fā)布,并正式支持第二代 AMD Versal AI Edge 系列器件和第二代 Prime 系列器件。
2025-12-24 11:08:09
441 的力興電子第二代手持式系列儀器,通過多維度技術(shù)迭代,為行業(yè)提供了更貼合實際需求的解決方案。 一、核心測量功能:精準(zhǔn)與高效的雙重突破 電力檢測的核心訴求是數(shù)據(jù)精準(zhǔn)與測試高效,這也是傳統(tǒng)設(shè)備的主要痛點(diǎn)。力興電子第
2025-12-19 14:51:14
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在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中,光刻機(jī)0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐,其作為“隱形功臣”,是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
2025-12-12 13:02:26
424 近期國內(nèi)和歐洲密切出臺構(gòu)網(wǎng)技術(shù)相關(guān)政策法規(guī),再次點(diǎn)燃了構(gòu)網(wǎng)技術(shù)的全球關(guān)注熱度。上能電氣以第二代增強(qiáng)混動構(gòu)網(wǎng)技術(shù)的“剛性支撐”和“柔性調(diào)節(jié)”特性曲線,勾勒出基于新能源和電力電子為主體的新型電力系統(tǒng)發(fā)展藍(lán)圖。緊接上一期的探討,本篇上能電氣將繼續(xù)呈現(xiàn)第二代增強(qiáng)混動構(gòu)網(wǎng)技術(shù)的核心功能。
2025-11-25 18:15:23
1651 三星公布了即將推出的首代2nm芯片性能數(shù)據(jù);據(jù)悉,2nm工藝采用的是全柵極環(huán)繞(GAA)晶體管技術(shù),相比第二代3nm工藝,性能提升5%,功耗效率提高8%,芯片面積縮小5%。
2025-11-19 15:34:34
1116 新品第二代CoolSiCMOSFETG21400V,TO-247PLUS-4回流焊封裝采用TO-247PLUS-4回流焊封裝的CoolSiCMOSFETG21400V功率器件,是電動汽車充電、儲能
2025-11-17 17:02:54
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 在第八屆中國國際進(jìn)口博覽會(以下簡稱“進(jìn)博會”)上,全球光刻機(jī)巨頭ASML以“積納米之微,成大千世界”為主題亮相,向全球展示其面向主流芯片市場的全景光刻解決方案。這是ASML
2025-11-13 09:12:55
1923 近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33
929 。 隨著高精度三維掃描技術(shù)的飛速發(fā)展,無線掃描這一應(yīng)用形式不斷深化,經(jīng)過這些年的發(fā)展,先臨三維已經(jīng)歷經(jīng)第一代、第二代直至第三代技術(shù)。第一代技術(shù)需要配合外置無線模塊使用,通過外置的無線模塊將數(shù)據(jù)傳輸至外置電腦,第二代則在第一代基
2025-09-26 11:26:46
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EUV(極紫外)光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長,成為 7nm 及以下節(jié)點(diǎn)集成電路制造的核心工藝,其光刻后形成的三維圖形(如鰭片、柵極、接觸孔等)尺寸通常在 5-50nm 范圍,高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09
592 確定 12 英寸集成電路新建項目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量,需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則,分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷,具體流程與關(guān)鍵考量如下:
2025-09-18 11:24:23
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%。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破, 當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)持續(xù)向7nm及以下邁進(jìn),傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求,此時,波長13.5nm的極紫外(EUV)光刻技術(shù)逐漸成為支撐
2025-08-17 00:03:00
4219 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備,專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場發(fā)射電子槍,結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng),確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設(shè)備,專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源,并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù),實現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能,真正做到
2025-08-15 15:11:55
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱:芯上微裝,英文簡稱:AMIES)第500臺步進(jìn)光刻機(jī)成功交付,并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:34
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新品第二代CoolSiCMOSFET1200VQ-DPAK封裝分立器件產(chǎn)品擴(kuò)展CoolSiC1200VMOSFET(頂部散熱Q-DPAK單管封裝)專為工業(yè)應(yīng)用設(shè)計,適用于電動汽車充電、光伏
2025-08-11 17:04:31
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今日,南芯科技(證券代碼:688484)正式發(fā)布第二代車規(guī)級高邊開關(guān) (HSD) SC77450CQ,基于國內(nèi)自主研發(fā)的垂直溝道 BCD 集成工藝和全國產(chǎn)化封測供應(yīng)鏈,在 N 型襯底單晶圓上實現(xiàn)了
2025-08-05 15:17:14
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? ? 時隔21年,佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前,據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報道,佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式,這也是佳能時隔21年開設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:38
2173 7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28
712 在AOV技術(shù)發(fā)展版圖中,覓睿與君正緊密攜手,共同繪就了創(chuàng)新畫卷。2024年,君正推出行業(yè)首顆AOV芯片T41,覓睿率先將其技術(shù)落地,成為該領(lǐng)域的開拓者。如今,隨著君正T32VN規(guī)格的發(fā)布,覓睿基于此研發(fā)的第二代AOV產(chǎn)品震撼亮相,續(xù)寫技術(shù)創(chuàng)新傳奇。
2025-07-30 13:48:58
1247 新品第二代CoolSiCMOSFETG2750V-工業(yè)級與車規(guī)級碳化硅功率器件第二代750VCoolSiCMOSFET憑借成熟的柵極氧化層技術(shù),在抗寄生導(dǎo)通方面展現(xiàn)出業(yè)界領(lǐng)先的可靠性。該器件在圖騰柱
2025-07-28 17:06:08
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