? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái)，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:00
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7月16日，全球三大光刻巨頭之一的日本尼康公司宣布，正式推出全球首款專為半導(dǎo)體后道工藝設(shè)計(jì)的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)——DSP-100，這款設(shè)備為先進(jìn)封裝量身定制，可以容納600mm大基板，并提供1.0μm
2025-07-24 09:29:397816 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/莫婷婷）中國(guó)，作為全球最大的半導(dǎo)體消費(fèi)市場(chǎng)，近年來(lái)在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，不僅市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大，國(guó)產(chǎn)化率也逐步提升，同時(shí)涌現(xiàn)出一批具有競(jìng)爭(zhēng)力的半導(dǎo)體設(shè)備廠商。就在近期
2025-03-28 09:02:324900 
在半導(dǎo)體制造的精密流程中，晶圓清洗機(jī)濕法制程設(shè)備扮演著至關(guān)重要的角色。以下是關(guān)于晶圓清洗機(jī)濕法制程設(shè)備的介紹：分類單片清洗機(jī)：采用兆聲波、高壓噴淋或旋轉(zhuǎn)刷洗技術(shù)，針對(duì)納米級(jí)顆粒物進(jìn)行去除。批量式清洗
2025-12-29 13:27:19202 
在半導(dǎo)體制造邁向先進(jìn)制程的今天，濕法清洗技術(shù)作為保障芯片良率的核心環(huán)節(jié)，其重要性愈發(fā)凸顯。RCA濕法清洗設(shè)備憑借其成熟的工藝體系與高潔凈度表現(xiàn)，已成為全球半導(dǎo)體廠商的首選方案。本文將從設(shè)備工藝流程
2025-12-24 10:39:08135 半導(dǎo)體的芯片制造超過(guò)1000道工序，每步良率99.9%最終良率也只有36.8%，半導(dǎo)體量檢測(cè)設(shè)備是實(shí)現(xiàn)芯片制程亞納米級(jí)精度管控的核心裝備，面臨多物理場(chǎng)合干擾、吞吐效率與精度互斥、高維護(hù)成本等挑戰(zhàn)，直
2025-12-02 10:35:10265 
）設(shè)備身份認(rèn)證與訪問(wèn)控制方案?
為防止非法設(shè)備接入物聯(lián)網(wǎng)系統(tǒng)，芯源半導(dǎo)體提供了設(shè)備身份認(rèn)證與訪問(wèn)控制方案：?
設(shè)備身份唯一標(biāo)識(shí)：每一顆芯源半導(dǎo)體安全芯片都具有唯一的身份標(biāo)識(shí)（UID），該標(biāo)識(shí)在芯片生產(chǎn)過(guò)程
2025-11-18 08:06:15
如有雷同或是不當(dāng)之處，還請(qǐng)大家海涵。當(dāng)前在各網(wǎng)絡(luò)平臺(tái)上均以此昵稱為ID跟大家一起交流學(xué)習(xí)！ 在半導(dǎo)體行業(yè)，光刻（Photo）工藝技術(shù)就像一位技藝高超的藝術(shù)家，負(fù)責(zé)將復(fù)雜的電路圖案從掩模轉(zhuǎn)印到光滑的半導(dǎo)體晶圓上。作為制造過(guò)
2025-11-10 09:27:481746 
近日，上揚(yáng)軟件與其長(zhǎng)期合作伙伴新進(jìn)半導(dǎo)體再度達(dá)成深度合作共識(shí)，將為其在宜興建設(shè)的全新6英寸產(chǎn)線提供CIM解決方案，涵蓋MES（制造執(zhí)行系統(tǒng)）、EAP（設(shè)備自動(dòng)化程序）、RMS（配方管理系統(tǒng)）等核心
2025-11-07 13:47:17576 在電子與半導(dǎo)體制造的精密領(lǐng)域中滾珠導(dǎo)軌以納米級(jí)定位精度和微米級(jí)運(yùn)動(dòng)控制能力，成為支撐晶圓傳輸、光刻對(duì)準(zhǔn)、芯片封裝等核心工藝的“隱形基石”。
2025-10-30 17:49:18581 
器件都承載著巨大的科技使命，它的穩(wěn)定性和壽命直接決定著設(shè)備的整體壽命與系統(tǒng)安全的保障，而半導(dǎo)體分立器件測(cè)試設(shè)備正是守護(hù)這些芯小小器件品質(zhì)的關(guān)鍵利器，為半導(dǎo)體制造企業(yè)及應(yīng)用終端行業(yè)為半導(dǎo)體核心功率轉(zhuǎn)換元件
2025-10-10 10:35:17
在全球科技浪潮洶涌澎湃的當(dāng)下，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)宛如一座精密運(yùn)轉(zhuǎn)的巨大引擎，驅(qū)動(dòng)著信息技術(shù)革命不斷向前。而在這一復(fù)雜且嚴(yán)苛的生產(chǎn)體系中，半導(dǎo)體濕制程設(shè)備猶如一位默默耕耘的幕后英雄，雖不常現(xiàn)身臺(tái)前，卻以無(wú)可
2025-09-28 14:06:40
摘要：光刻機(jī)、晶圓制造量測(cè)設(shè)備、化學(xué)氣相沉積設(shè)備、離子注入機(jī)、晶圓涂膠顯影機(jī)、探針測(cè)試臺(tái)…這些關(guān)鍵設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率仍不足5%。當(dāng)前，中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)正處在一個(gè)前所未有的戰(zhàn)略機(jī)遇期與攻堅(jiān)期。在外部技術(shù)
2025-09-26 23:32:05863 
半導(dǎo)體腐蝕清洗機(jī)是集成電路制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備，其作用貫穿晶圓加工的多個(gè)核心環(huán)節(jié)，具體體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：一、精準(zhǔn)去除表面污染物與殘留物在半導(dǎo)體工藝中，光刻、刻蝕、離子注入等步驟會(huì)留下多種
2025-09-25 13:56:46492 
半導(dǎo)體設(shè)備對(duì)于生產(chǎn)環(huán)境的穩(wěn)定性要求極高，哪怕是極其細(xì)微的震動(dòng)都可能對(duì)芯片制造的精度和質(zhì)量產(chǎn)生嚴(yán)重影響。防震基座作為保障半導(dǎo)體設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵部件，其質(zhì)量和性能至關(guān)重要。本文將詳細(xì)介紹半導(dǎo)體設(shè)備防震基座中鋼結(jié)構(gòu)型、RC 水泥型以及鋼結(jié)構(gòu)與 RC 水泥結(jié)合型這三種類型的生產(chǎn)制造全工藝流程。
2025-09-18 11:27:29555 
在rt-thread studio環(huán)境中之前編譯成功的項(xiàng)目(1234)重命名(test)后出現(xiàn)大批量的錯(cuò)誤是什么原因造成？該如何處理？這很困擾，為啥重命名就能出現(xiàn)這樣的情況？
2025-09-17 06:58:00
滾珠花鍵以傳遞扭矩、實(shí)現(xiàn)高精度直線運(yùn)動(dòng)以及承受復(fù)雜載荷，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造設(shè)備中。
2025-09-16 17:59:54593 
%。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58
（CSEAC 2025）主論壇暨第十三屆中國(guó)電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會(huì)半導(dǎo)體設(shè)備年會(huì)上，拓荊科技股份有限公司董事長(zhǎng)呂光泉與青禾晶元半導(dǎo)體科技（集團(tuán)）有限責(zé)任公司創(chuàng)始人兼董事長(zhǎng)母鳳文，分別從原子級(jí)制造與鍵合集成兩大核心維度，分享了半導(dǎo)
2025-09-10 07:33:007810 近日，中國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)集團(tuán)組織的“2025年先進(jìn)級(jí)智能工廠” 認(rèn)定結(jié)果出爐，華大半導(dǎo)體有限公司旗下上海積塔半導(dǎo)體有限公司的汽車電子芯片制造智能工廠憑借出色的智能制造體系、豐富的應(yīng)用場(chǎng)景、先進(jìn)的預(yù)警機(jī)制、高效的數(shù)據(jù)協(xié)同、突出的運(yùn)營(yíng)成效，成功獲得“先進(jìn)級(jí)智能工廠”榮譽(yù)稱號(hào)。
2025-09-04 14:51:05987 4248萬(wàn)元；扣非歸母凈利潤(rùn)雖仍為負(fù)，但虧損幅度大幅收窄，從去年同期的-7272萬(wàn)元減少至-1145.43萬(wàn)元。 ? 長(zhǎng)光華芯始終專注于半導(dǎo)體激光芯片的研發(fā)、設(shè)計(jì)及制造，產(chǎn)品涵蓋高功率單管、高功率巴條、高效率VCSEL及光通信芯片等多個(gè)系列。通過(guò)緊跟下游市場(chǎng)趨勢(shì)，公司不
2025-09-01 07:53:007521 
在半導(dǎo)體制造向“納米級(jí)工藝、微米級(jí)控制”加速演進(jìn)的背景下，滾珠導(dǎo)軌憑借其高剛性、低摩擦、高潔凈度等特性，成為晶圓傳輸、光刻對(duì)準(zhǔn)、蝕刻沉積等核心工藝設(shè)備中不可或缺的精密運(yùn)動(dòng)載體。
2025-08-26 17:54:03561 
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
當(dāng)您尋找可靠的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時(shí)，一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材（688199.SH）。這家光引發(fā)劑巨頭，正以令人矚目的速度在半導(dǎo)體核心材料國(guó)產(chǎn)化浪潮中嶄露頭角
2025-08-12 16:45:381152 微型導(dǎo)軌在半導(dǎo)體制造中用于晶圓對(duì)準(zhǔn)和定位系統(tǒng)，確保晶圓在光刻、蝕刻等工藝中精確移動(dòng)。
2025-08-08 17:50:08797 
近期，東風(fēng)新能源車大批量簽約交付投入網(wǎng)約車市場(chǎng)，攜手合作伙伴共建出行服務(wù)新標(biāo)桿，成為城市綠色出行的重要一環(huán)。
2025-07-31 14:19:01848 半導(dǎo)體傳統(tǒng)封裝與先進(jìn)封裝的分類及特點(diǎn)
2025-07-30 11:50:181057 
一、核心功能與應(yīng)用場(chǎng)景半導(dǎo)體超聲波清洗機(jī)是利用高頻超聲波（20kHz-1MHz）的空化效應(yīng)，通過(guò)液體中微射流和沖擊波的作用，高效剝離晶圓表面的顆粒、有機(jī)物、金屬污染及微小結(jié)構(gòu)內(nèi)的殘留物。廣泛應(yīng)用
2025-07-23 15:06:54
近日，總投資超200億元的長(zhǎng)飛先進(jìn)半導(dǎo)體基地項(xiàng)目正式運(yùn)營(yíng)投產(chǎn)。該項(xiàng)目是目前國(guó)內(nèi)規(guī)模最大的碳化硅半導(dǎo)體基地，年產(chǎn)36萬(wàn)片6英寸碳化硅晶圓，可滿足144萬(wàn)輛新能源汽車制造需求，推動(dòng)我國(guó)第三代半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)
2025-07-22 07:33:221042 
面對(duì)制造業(yè)大批量、高效率的尺寸檢測(cè)需求，光子精密推出了革命性產(chǎn)品——QM系列圖像尺寸測(cè)量?jī)x。憑借±1μm的超高測(cè)量精度、行業(yè)領(lǐng)先的大批量檢測(cè)能力，重新定義尺寸檢測(cè)的效率標(biāo)準(zhǔn)。
2025-07-18 08:00:00637 
奧松傳感傳來(lái)好消息，在7月14日11時(shí)38分，重慶奧松半導(dǎo)體特色芯片產(chǎn)業(yè)基地（下稱“奧松半導(dǎo)體項(xiàng)目”）迎來(lái)具有里程碑意義的時(shí)刻——8英寸生產(chǎn)線首臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備，在眾人關(guān)切注視的目光中平穩(wěn)進(jìn)場(chǎng)。 首臺(tái)
2025-07-17 16:33:121559 
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的工藝制造環(huán)節(jié)中，溫度控制的穩(wěn)定性直接影響芯片的性能與良率。其中，半導(dǎo)體冷盤chiller作為溫控設(shè)備之一，通過(guò)準(zhǔn)確的流體溫度調(diào)節(jié)，為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的各類工藝提供穩(wěn)定的環(huán)境支撐，成為
2025-07-16 13:49:19580 
一站式PCBA加工廠家今天為大家講講小批量SMT加工與大批量生產(chǎn)有什么區(qū)別？小批量SMT加工與大批量生產(chǎn)差異解析。 ? 一、SMT加工的核心模式差異 1. 生產(chǎn)規(guī)模與設(shè)備配置 小批量SMT加工通常
2025-07-16 09:18:40836 目錄
第1章?半導(dǎo)體中的電子和空穴第2章?電子和空穴的運(yùn)動(dòng)與復(fù)合
第3章?器件制造技術(shù)
第4章?PN結(jié)和金屬半導(dǎo)體結(jié)
第5章?MOS電容
第6章?MOSFET晶體管
第7章?IC中的MOSFET
2025-07-12 16:18:42
結(jié)構(gòu)、器件的制造和模擬、功率半導(dǎo)體器件的應(yīng)用到各類重要功率半導(dǎo)體器件的基本原理、設(shè)計(jì)原則和應(yīng)用特性，建立起一系列不同層次的、復(fù)雜程度漸增的器件模型，并闡述了各類重要功率半導(dǎo)體器件各級(jí)模型的基礎(chǔ)知識(shí)，使
2025-07-11 14:49:36
一、涂膠顯影設(shè)備：光刻工藝的“幕后守護(hù)者” 在半導(dǎo)體制造的光刻環(huán)節(jié)里，涂膠顯影設(shè)備與光刻機(jī)需協(xié)同作業(yè)，共同實(shí)現(xiàn)精密的光刻工藝。曝光工序前，涂膠機(jī)會(huì)在晶圓表面均勻涂覆光刻膠；曝光完成后，顯影設(shè)備則對(duì)晶
2025-07-03 09:14:54770 
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形線寬變化直接影響器件性能與集成度。精確控制光刻圖形線寬是保障工藝精度的關(guān)鍵。本文將介紹改善光刻圖形線寬變化的方法，并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中
2025-06-30 15:24:55736 
，設(shè)計(jì)變更更是導(dǎo)致治具報(bào)廢率達(dá)35%。核心矛盾：“大批量設(shè)備的效率優(yōu)勢(shì)，在小批量戰(zhàn)場(chǎng)淪為成本黑洞”
邁威選擇性波峰焊助力柔性電子生產(chǎn)智造
電子制造正邁向“小批量、多品種、快迭代”的柔性生產(chǎn)時(shí)代，傳統(tǒng)波峰焊的高
2025-06-30 14:54:24
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形的垂直度對(duì)器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準(zhǔn)控制光刻圖形垂直度是保障先進(jìn)制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13489 半導(dǎo)體制造對(duì)工藝溫度的穩(wěn)定性要求比較高，在此背景下，半導(dǎo)體直冷機(jī)Chiller作為關(guān)鍵配套設(shè)備，其性能直接影響芯片良率與生產(chǎn)效率。一、半導(dǎo)體直冷機(jī)Chiller的核心應(yīng)用場(chǎng)景半導(dǎo)體制造全流程涉及光刻
2025-06-26 15:39:09820 
制造、科研實(shí)驗(yàn)，到通信設(shè)備運(yùn)行，半導(dǎo)體溫控技術(shù)的應(yīng)用為相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展提供了溫控保障。隨著技術(shù)的持續(xù)創(chuàng)新迭代，半導(dǎo)體溫控技術(shù)有望在更多領(lǐng)域拓展應(yīng)用邊界。
2025-06-25 14:44:54
在半導(dǎo)體制造的精密鏈條中，半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備是確保芯片良率與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。它通過(guò)化學(xué)或物理手段去除晶圓表面的污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬離子等），為后續(xù)制程提供潔凈的基底。本文將從設(shè)備定義、核心特點(diǎn)
2025-06-25 10:31:51
有沒(méi)有這樣的半導(dǎo)體專用大模型，能縮短芯片設(shè)計(jì)時(shí)間，提高成功率，還能幫助新工程師更快上手。或者軟硬件可以在設(shè)計(jì)和制造環(huán)節(jié)確實(shí)有實(shí)際應(yīng)用。會(huì)不會(huì)存在AI缺陷檢測(cè)。
能否應(yīng)用在工藝優(yōu)化和預(yù)測(cè)性維護(hù)中
2025-06-24 15:10:04
近年來(lái)，半導(dǎo)體行業(yè)氣體泄漏事件時(shí)有發(fā)生，其中不乏美國(guó)、日本、韓國(guó)等知名半導(dǎo)體制造企業(yè)，由此衍生出的爆燃、光刻機(jī)損毀、超凈車間毀壞、晶圓批量報(bào)廢、人員傷亡等事故令人觸目驚心。
2025-06-20 15:25:071176 在 MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過(guò)程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對(duì)準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491556 
半導(dǎo)體藥液?jiǎn)卧–hemical Delivery Unit, CDU）是半導(dǎo)體前道工藝（FEOL）中的關(guān)鍵設(shè)備，用于精準(zhǔn)分配、混合和回收高純化學(xué)試劑（如蝕刻液、清洗液、顯影液等），覆蓋光刻、蝕刻
2025-06-17 11:38:08
在全球科技競(jìng)爭(zhēng)加劇的背景下，美國(guó)對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)制裁加速，涉及超過(guò)100家實(shí)體企業(yè)，覆蓋了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈多個(gè)制造環(huán)節(jié)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國(guó)產(chǎn)化迫在眉睫。 從光刻機(jī)到刻蝕機(jī)，從清洗設(shè)備到檢測(cè)設(shè)備，半導(dǎo)體制造
2025-06-16 15:04:102060 
? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 。在全球半導(dǎo)體競(jìng)爭(zhēng)加劇的浪潮中，芯矽科技使命在肩。一方面持續(xù)加大研發(fā)投入，探索新技術(shù)、新工藝，提升設(shè)備性能，向國(guó)際先進(jìn)水平看齊；另一方面，積極攜手上下游企業(yè)，構(gòu)建產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新生態(tài)，共破技術(shù)瓶頸，推動(dòng)
2025-06-05 15:31:42
半導(dǎo)體設(shè)備，一直是一個(gè)水深火熱的細(xì)分領(lǐng)域。 隨著2024年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額數(shù)據(jù)的出爐，這一領(lǐng)域迎來(lái)更多看點(diǎn)。 ** 01****半導(dǎo)體設(shè)備，大賣！** 根據(jù)SEMI最新公布數(shù)據(jù)顯示， 2024年
2025-06-05 04:36:57873 
近日，江蘇省工業(yè)和信息化廳發(fā)布了《2025 年江蘇省先進(jìn)級(jí)智能工廠名單公示》，美新半導(dǎo)體（無(wú)錫）有限公司憑借在智能制造領(lǐng)域的卓越表現(xiàn)成功入圍。
2025-05-30 14:54:30962 測(cè)量。
（2）系統(tǒng)覆蓋襯底切磨拋，光刻/蝕刻后翹曲度檢測(cè)，背面減薄厚度監(jiān)測(cè)等關(guān)鍵工藝環(huán)節(jié)。
晶圓作為半導(dǎo)體工業(yè)的“地基”，其高純度、單晶結(jié)構(gòu)和大尺寸等特點(diǎn)，支撐了芯片的高性能與低成本制造。其戰(zhàn)略價(jià)值不僅
2025-05-28 16:12:46
) 市場(chǎng)預(yù)計(jì)將在未來(lái)五年內(nèi)實(shí)現(xiàn)大幅增長(zhǎng)。傳感器是芯片制造中使用的先進(jìn)光刻系統(tǒng)的核心。 制造復(fù)雜、高性能且越來(lái)越小的半導(dǎo)體芯片時(shí)，在很大程度上依賴于高精度、高靈敏度的光刻工藝，這些工藝有助于在硅晶圓和芯片制造中使用的其他基底上印制復(fù)雜的圖案。 先進(jìn)光刻系統(tǒng)采用了極其精確和靈敏的技
2025-05-25 10:50:00755 
在科技飛速發(fā)展的當(dāng)下，半導(dǎo)體作為現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)的基石，其重要性不言而喻。而半導(dǎo)體制造設(shè)備，更是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵驅(qū)動(dòng)力。步入 2025 年，半導(dǎo)體制造設(shè)備市場(chǎng)正站在一個(gè)充滿變數(shù)的十字路口，前景究竟是一片璀璨，還是會(huì)陷入風(fēng)云變幻的局面，引發(fā)了行業(yè)內(nèi)外的廣泛關(guān)注。
2025-05-22 15:01:361534 
設(shè)備拋光機(jī)上的經(jīng)典應(yīng)用案例。企業(yè)背景與痛點(diǎn)廣東一半導(dǎo)體制造公司專注于高端芯片生產(chǎn)，其先進(jìn)的 12 英寸晶圓生產(chǎn)線采用了前沿的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)，旨在實(shí)現(xiàn)晶圓
2025-05-22 14:58:29
第三代功率半導(dǎo)體的應(yīng)用測(cè)試不再困難,目前正與行業(yè)頭部廠商共建測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)高精度測(cè)量設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，通過(guò)持續(xù)的技術(shù)迭代，麥科信正為半導(dǎo)體測(cè)試領(lǐng)域提供更多國(guó)產(chǎn)化設(shè)備選擇。
2025-05-09 16:10:01
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
刻蝕工藝的核心機(jī)理與重要性 刻蝕工藝是半導(dǎo)體圖案化過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，與光刻機(jī)和薄膜沉積設(shè)備并稱為半導(dǎo)體制造的三大核心設(shè)備?？涛g的主要作用是將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到功能膜層，具體而言，是通過(guò)物理及化學(xué)
2025-04-27 10:42:452200 
、Chiller在半導(dǎo)體工藝中的應(yīng)用解析1、溫度控制的核心作用設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行保障：半導(dǎo)體制造設(shè)備如光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等，其內(nèi)部光源、光學(xué)系統(tǒng)及機(jī)械部件在運(yùn)行過(guò)程中產(chǎn)生大量熱量。Ch
2025-04-21 16:23:481231 
半導(dǎo)體單片清洗機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備，用于去除晶圓表面的顆粒、有機(jī)物、金屬污染和氧化物。其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需滿足高精度、高均勻性、低損傷等要求，以下是其核心組成部分的詳細(xì)介紹： 一、主要結(jié)構(gòu)組成 清洗槽
2025-04-21 10:51:311617 中圖儀器WD4000系列半導(dǎo)體晶圓表面形貌量測(cè)設(shè)備通過(guò)非接觸測(cè)量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，TTV，BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷
2025-04-21 10:49:55
本文介紹了半導(dǎo)體集成電路制造中的晶圓制備、晶圓制造和晶圓測(cè)試三個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)。
2025-04-15 17:14:372155 
——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜，再到測(cè)試封裝，一目了然。 全書共分20章，根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來(lái)安排章節(jié)，包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息；總體流程圖
2025-04-15 13:52:11
半導(dǎo)體元素是芯片制造的主要材料，芯片運(yùn)算主要是用二進(jìn)制進(jìn)行運(yùn)算。所以在電流來(lái)代表二進(jìn)制的0和1，即0是不通電，1是通電。正好半導(dǎo)體通過(guò)一些微觀的構(gòu)造與參雜可以這種性質(zhì)。
2025-04-15 09:32:291641 
【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng)，尤其是在先進(jìn)
2025-04-07 09:24:271236 半導(dǎo)體行業(yè)制造設(shè)備應(yīng)用指標(biāo)關(guān)鍵詞：SEMI F47認(rèn)證、高精度電壓控制、低紋波噪聲、快速動(dòng)態(tài)響應(yīng)、高可靠性和長(zhǎng)壽命、國(guó)產(chǎn)化品牌。
2025-04-03 17:32:011367 。
光刻工藝、刻蝕工藝
在芯片制造過(guò)程中，光刻工藝和刻蝕工藝用于在某個(gè)半導(dǎo)體材料或介質(zhì)材料層上，按照光掩膜版上的圖形，“刻制”出材料層的圖形。
首先準(zhǔn)備好硅片和光掩膜版，然后再硅片表面上通過(guò)薄膜工藝生成一
2025-04-02 15:59:44
在半導(dǎo)體制造的精密工藝流程中，每一個(gè)零部件都扮演著至關(guān)重要的角色，而靜電卡盤（Electrostatic Chuck，簡(jiǎn)稱E-Chuck）無(wú)疑是其中的佼佼者。作為固定晶圓的關(guān)鍵設(shè)備，靜電卡盤以其獨(dú)特的靜電吸附原理、高精度的溫度控制能力以及廣泛的適用性，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用。
2025-03-31 13:56:143951 
創(chuàng)新技術(shù)賦能先進(jìn)制造，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)效率革命 ? 2025年3月27日，Semicon China 2025期間，全球領(lǐng)先的真空設(shè)備制造商愛(ài)發(fā)科集團(tuán)正式推出三款面向先進(jìn)半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備：? 多腔室薄膜
2025-03-28 16:14:51542 
光刻工藝貫穿整個(gè)芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié)，對(duì)于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn)，對(duì)光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求持續(xù)攀升，光刻技術(shù)也將不斷演化，支持更為先進(jìn)的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計(jì)。
2025-03-27 09:21:333273 
在半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展歷程中，技術(shù)創(chuàng)新始終是推動(dòng)行業(yè)前進(jìn)的核心動(dòng)力。深圳瑞沃微半導(dǎo)體憑借其先進(jìn)封裝技術(shù)，用強(qiáng)大的實(shí)力和創(chuàng)新理念，立志將半導(dǎo)體行業(yè)邁向新的高度。 回溯半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展軌跡，摩爾定律無(wú)疑是一個(gè)重要的里程碑
2025-03-17 11:33:30779 
北京市最值得去的十家半導(dǎo)體芯片公司
原創(chuàng) 芯片失效分析 半導(dǎo)體工程師 2025年03月05日 09:41 北京
北京市作為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要基地，聚集了眾多在芯片設(shè)計(jì)、制造、設(shè)備及新興技術(shù)領(lǐng)域具有
2025-03-05 19:37:43
芯和半導(dǎo)體科技（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“芯和半導(dǎo)體”）將于3月13日參加在重慶舉辦的重慶半導(dǎo)體制造與先進(jìn)封測(cè)產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇。作為國(guó)內(nèi)Chiplet先進(jìn)封裝EDA的代表，芯和半導(dǎo)體創(chuàng)始人、總裁代文亮博士將發(fā)表題為《集成系統(tǒng)EDA賦能加速先進(jìn)封裝設(shè)計(jì)仿真》的主題演講。
2025-03-05 15:01:191182 光刻是廣泛應(yīng)用的芯片加工技術(shù)之一,下圖是常見的半導(dǎo)體加工工藝流程。
2025-03-04 17:07:042118 
01 半導(dǎo)體制造及先進(jìn)封裝持續(xù)升溫 得益于政策的有力支持、行業(yè)周期性的變化、創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的增長(zhǎng)以及國(guó)產(chǎn)替代的加速推進(jìn)，從IC設(shè)計(jì)到晶圓制造、封裝測(cè)試，再到設(shè)備材料等多個(gè)細(xì)分領(lǐng)域，國(guó)產(chǎn)化率實(shí)現(xiàn)了顯著提升
2025-02-17 09:56:061930 在半導(dǎo)體制造的精密世界里，每一個(gè)細(xì)微環(huán)節(jié)都關(guān)乎芯片的性能與質(zhì)量。其中，半導(dǎo)體防震基座作為支撐核心設(shè)備的關(guān)鍵部件，其剛性表現(xiàn)起著舉足輕重的作用。一、剛性為何至關(guān)重要隨著芯片制程工藝不斷向更小尺寸邁進(jìn)
2025-02-17 09:52:061192 光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要，但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)（NIL）的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備，并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503708 
、南通高新區(qū)常務(wù)副書記吳冰冰致辭。 制局半導(dǎo)體是小芯片和異構(gòu)集成技術(shù)先行者，致力于為客戶提供系統(tǒng)芯片及模組整體解決方案。此次開工的制局半導(dǎo)體（南通）有限公司先進(jìn)封裝（CHIPLETS）模組制造項(xiàng)目總投資10.5億元，為客戶提供
2025-02-12 10:48:50955 
半導(dǎo)體制造設(shè)備對(duì)傳動(dòng)系統(tǒng)的精度、可靠性和穩(wěn)定性要求極高，臺(tái)灣精銳APEX減速機(jī)憑借其低背隙、高精度和高剛性等優(yōu)勢(shì)，在半導(dǎo)體制造設(shè)備中得到了廣泛應(yīng)用。
2025-02-06 13:12:07630 
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行，因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:451240 一、定制化的必要性1，適應(yīng)不同設(shè)備需求（1)半導(dǎo)體設(shè)備的種類繁多，包括光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備等，每種設(shè)備的尺寸、重量、重心位置以及振動(dòng)敏感程度都有所不同。例如，光刻機(jī)通常對(duì)精度要求極高，其工作
2025-02-05 16:48:20786 半導(dǎo)體設(shè)備安裝防震裝置主要有以下幾方面原因：一、高精度加工要求1,光刻工藝(1)光刻是半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵步驟，其精度要求極高。例如，在芯片制造中，光刻設(shè)備需要將電路圖案精確地投射到硅片上?，F(xiàn)代光刻技術(shù)
2025-02-05 16:48:03874 半導(dǎo)體封裝是半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，旨在保護(hù)芯片免受外界環(huán)境的影響，同時(shí)實(shí)現(xiàn)芯片與外部電路的連接。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，封裝技術(shù)也在不斷革新，以滿足電子設(shè)備小型化、高性能、低成本和環(huán)保的需求。本文將詳細(xì)介紹半導(dǎo)體封裝的類型和制造方法。
2025-02-02 14:53:002637 光刻是芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過(guò)程的詳細(xì)介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:003583 
在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，半導(dǎo)體設(shè)備的運(yùn)行穩(wěn)定性對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率起著決定性作用。由于半導(dǎo)體制造工藝精度極高，設(shè)備極易受到外界振動(dòng)的干擾，因此選擇合適的防震基座至關(guān)重要。不同類型的防震基座具備不同的特性和適用場(chǎng)景，準(zhǔn)確判斷設(shè)備需求，才能為其提供有效的振動(dòng)防護(hù)。
2025-01-26 15:10:36892 
在半導(dǎo)體制造這一高度精密且不斷進(jìn)步的領(lǐng)域，每一項(xiàng)技術(shù)都承載著推動(dòng)行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵使命。原子層沉積（Atomic Layer Deposition，簡(jiǎn)稱ALD）工藝，作為一種先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù)，正逐漸成為半導(dǎo)體制造中不可或缺的一環(huán)。本文將深入探討半導(dǎo)體中為何會(huì)用到ALD工藝，并分析其獨(dú)特優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用場(chǎng)景。
2025-01-20 11:44:444403 
近日，日本半導(dǎo)體制造裝置協(xié)會(huì)(SEAJ)發(fā)布了對(duì)2024年度日本制造半導(dǎo)體制造設(shè)備銷售額的最新預(yù)期，預(yù)計(jì)這一數(shù)值將達(dá)到44,371億日元，創(chuàng)下歷史新高。這一樂(lè)觀的預(yù)測(cè)引起了業(yè)界的廣泛關(guān)注，也反映出
2025-01-20 11:42:27957 
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456355 
光耦的制造工藝 1. 材料選擇 光耦的制造首先需要選擇合適的半導(dǎo)體材料，如硅、鍺等。這些材料需要具有優(yōu)良的光電特性，以確保光耦的高性能。 2. 芯片制備 光耦的芯片制備包括發(fā)光二極管和光敏元件的制造
2025-01-14 16:55:081780 降低半導(dǎo)體設(shè)備防震基座的制造成本，可從優(yōu)化設(shè)計(jì)、成本控制、生產(chǎn)管理和供應(yīng)鏈管理等方面著手
2025-01-09 16:07:341006 
，nanoimprint lithography），它能夠繪制出小至14納米的電路特征——使邏輯芯片達(dá)到與英特爾、超微半導(dǎo)體（AMD）和英偉達(dá)現(xiàn)正大量生產(chǎn)的處理器相當(dāng)?shù)乃健?納米壓印光刻系統(tǒng)具有的優(yōu)勢(shì)可能對(duì)當(dāng)今主導(dǎo)先進(jìn)
2025-01-09 11:31:181277 如何提高半導(dǎo)體設(shè)備防震基座的制造效率？-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司提高半導(dǎo)體設(shè)備防震基座的制造效率是一個(gè)綜合性的過(guò)程，需要從多個(gè)方面進(jìn)行優(yōu)化和改進(jìn)，以下是一些可行的方法：1，優(yōu)化生產(chǎn)流程（1)價(jià)值流
2025-01-08 15:06:57751 
據(jù)天眼查顯示，近日，泰研半導(dǎo)體完成約5000萬(wàn)元B輪融資，本輪投資方為紫金港資本。 深圳泰研半導(dǎo)體裝備有限公司是一家專注于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的專精特新、高新技術(shù)企業(yè)，自2017年成立以來(lái)一直堅(jiān)持技術(shù)研發(fā)
2025-01-07 16:40:32708 泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、企業(yè)背景與光刻加工電子束光刻設(shè)備挑戰(zhàn)某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)
2025-01-07 15:13:21
隨著科技的飛速發(fā)展，半導(dǎo)體技術(shù)已經(jīng)成為現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)的基石。在眾多半導(dǎo)體材料中，鎵因其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì)，在半導(dǎo)體制造中占據(jù)了一席之地。 鎵的基本性質(zhì) 鎵是一種柔軟、銀白色的金屬，具有低熔點(diǎn)
2025-01-06 15:11:592707 ，TTV，BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。 WD4000半導(dǎo)體晶圓幾何表面形貌檢測(cè)設(shè)備可廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢
2025-01-06 14:34:08
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