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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>半導(dǎo)體技術(shù)>半導(dǎo)體新聞>三星宣布第2代14納米FinFET工藝技術(shù)投入量產(chǎn)

三星宣布第2代14納米FinFET工藝技術(shù)投入量產(chǎn)

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三星使用EUV成功完成5nm FinFET工藝開(kāi)發(fā)

16日,三星電子宣布在基于EUV的高級(jí)節(jié)點(diǎn)方面取得了重大進(jìn)展,包括7nm批量生產(chǎn)和6nm客戶流片,以及成功完成5nm FinFET工藝的開(kāi)發(fā)。 三星電子宣布其5納米(nm)FinFET工藝技術(shù)的開(kāi)發(fā)
2019-04-18 15:48:477184

韓國(guó)三星首次研發(fā)5納米半導(dǎo)體工藝

韓國(guó)《中央日?qǐng)?bào)》發(fā)布消息稱,三星電子已成功研發(fā)出5納米(nm)半導(dǎo)體工藝,并于4月中正式量產(chǎn)首個(gè)利用極紫外光刻(EUV)的7納米芯片。對(duì)于新一半導(dǎo)體的精密工藝問(wèn)題,三星電子與各企業(yè)間的技術(shù)較量也
2019-05-22 10:25:425349

三星:也來(lái)看看我們的14nm晶圓吧

三星14nm同樣引入了FinFET晶體管技術(shù),而且又類似GlobalFoundries、聯(lián)電,三星也使用了14+20nm混合工藝,大致來(lái)說(shuō)就是晶體管是14nm的,其它各部分則都是20nm的。
2013-02-08 15:13:141962

三星10納米芯片制造工藝助力處理器升級(jí)

在國(guó)際電子電路研討會(huì)大會(huì)(ISSCC)上,三星展示了采用10納米FinFET工藝技術(shù)制造的300mm晶圓,這表明三星10納米FinFET工藝技術(shù)最終基本定型。
2015-05-28 10:25:272067

Intel、三星、TSMC工藝制程,瘋狂進(jìn)行時(shí)!

TSMC在FinFET工藝量產(chǎn)上落后于Intel、三星,不過(guò)他們?cè)?0nm及之后的工藝上很自信,2020年就會(huì)量產(chǎn)5nm工藝,還會(huì)用上EUV光刻工藝。
2016-07-18 10:47:091380

中芯長(zhǎng)電14納米硅片凸塊量產(chǎn) 彎道超車新機(jī)遇?

中芯長(zhǎng)電半導(dǎo)體有限公司28日在江陰宣布正式開(kāi)始為美國(guó)高通公司提供14納米硅片凸塊量產(chǎn)加工。這標(biāo)志著中芯長(zhǎng)電成為中國(guó)大陸第一家進(jìn)入14納米先進(jìn)工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)產(chǎn)業(yè)鏈并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的半導(dǎo)體公司。
2016-08-02 13:45:431276

三星被指盜取FinFET芯片專利技術(shù) 將被起訴

據(jù)外媒報(bào)道,三星電子被指侵犯了與鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinFET)制程工藝相關(guān)的專利,面臨訴訟。韓媒稱,韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院(KAIST)計(jì)劃對(duì)三星提起訴訟,指控后者侵犯其FinFET專利。KAIST稱,他們開(kāi)發(fā)了10納米FinFET工藝,但是三星竊取了這項(xiàng)技術(shù),并將其用于生產(chǎn)高通驍龍835芯片。
2016-12-05 15:35:27955

三星公布2/310nm制程量產(chǎn)時(shí)間 嗆聲臺(tái)積電

三星電子野心勃勃,全力搶攻晶圓代工業(yè)務(wù),該公司宣布第二、三代10納米制程量產(chǎn)時(shí)間,并表示未來(lái)將增加8 納米和6納米制程,嗆聲臺(tái)積電意味濃厚。
2017-03-17 09:21:081139

三星第二10納米制程開(kāi)發(fā)完成 | 老邢點(diǎn)評(píng)

三星上周四宣布,第二10納米FinFET制程已經(jīng)開(kāi)發(fā)完成,未來(lái)爭(zhēng)取10納米產(chǎn)品代工訂單將如虎添翼。下面就隨半導(dǎo)體小編一起來(lái)了解一下相關(guān)內(nèi)容吧。
2017-04-27 10:04:491826

中芯攬三星電子、臺(tái)積電技術(shù)猛將梁孟松 拼14納米FinFET要2019年量產(chǎn)

制程進(jìn)度,共同執(zhí)行長(zhǎng)趙海軍表示,先進(jìn)制程14納米FinFET將于2019年量產(chǎn),第二28納米HKMG制程也會(huì)于2018年底問(wèn)世,外界都睜大眼睛等著檢視成績(jī)單。 中芯國(guó)際15日的線上法說(shuō)中,仍是由趙海軍主持會(huì)議,梁孟松僅簡(jiǎn)短發(fā)言,代表加入新團(tuán)隊(duì)后的首次現(xiàn)“聲”,也滿
2017-11-27 16:29:531679

三星宣布已開(kāi)始7nm LPP工藝芯片量產(chǎn)工作

三星官方宣布,已經(jīng)開(kāi)始進(jìn)行7nm LPP(Low Power Plus)工藝芯片的量產(chǎn)工作。據(jù)悉,三星的7nm LPP采用EUV光刻,機(jī)器采購(gòu)自荷蘭ASML(阿斯麥),型號(hào)為雙工件臺(tái)NXE:3400B(光源功率280W),日產(chǎn)能1500片。
2018-10-18 09:48:281528

三星宣布:DRAM工藝可達(dá)10nm

Storage(OCS)”,容量也比原來(lái)格子狀排列時(shí)增大1.57倍。OSC是三星已在此前工藝中導(dǎo)入的技術(shù)。Air Spacer技術(shù)是最近經(jīng)常采用的通過(guò)在電極及布線周圍設(shè)置空隙來(lái)減小寄生電容的技術(shù)三星表示通過(guò)該技術(shù),與原來(lái)布線絕緣采用Si3N4時(shí)相比,可使Cb減小34%。
2015-12-14 13:45:01

三星手機(jī)RFID讀取芯片

三星宣布將開(kāi)發(fā)手持式裝置用的RFID(radio frequency identification)讀取芯片,能讓使用者透過(guò)手機(jī)得知產(chǎn)品和服務(wù)信息,但三星并未透露產(chǎn)品何時(shí)上市。 三星指出,RFID
2019-07-04 07:26:16

三星電子開(kāi)發(fā)出高質(zhì)量CMOS圖像傳感器芯片資料推薦

芯片,并將于今年12月份實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。根據(jù)市場(chǎng)調(diào)研機(jī)構(gòu)TSR的調(diào)查報(bào)告顯示,三星電子的最新圖像增強(qiáng)技術(shù)不僅適用于高分辨率照相手機(jī),還可以滿足當(dāng)前新興工業(yè)應(yīng)用對(duì)于高性價(jià)比圖像捕捉解決方案的需求。
2021-04-22 07:35:50

三星電池新技術(shù)

`聽(tīng)說(shuō)三星已搞定石墨烯電池,能量密度提升45%,充電快5倍比起OPPO的快充,你怎么看?(其實(shí)不得不服三星技術(shù))順便發(fā)個(gè)三星S9大合照!`
2017-11-29 16:33:10

三星高調(diào)宣布旗下WP7.5機(jī)型全部升級(jí)7.8的背后

根據(jù)三星技術(shù)部門確認(rèn)并宣布,三星將會(huì)把所有的Windows Phone 7.5機(jī)型的系統(tǒng)版本推送至7.8,原文如下:“We can confirm that our products
2012-12-23 11:03:51

GF退出7納米大戰(zhàn) 國(guó)鼎立下中國(guó)芯路在何方

技術(shù)開(kāi)發(fā)成功,同時(shí)透露會(huì)朝第二FinFET 技術(shù)開(kāi)發(fā)。若***一舉朝 7 納米前進(jìn),將會(huì)成為全球第四家 7 納米技術(shù)供應(yīng)商,與英特爾、臺(tái)積電、三星分庭抗禮。同時(shí),華為海思的麒麟980也搶先發(fā)布,首款
2018-09-05 14:38:53

[轉(zhuǎn)]臺(tái)積電借16nm FinFET Plus及InFO WLP 通吃英特爾蘋果

內(nèi)建封裝(PoP)技術(shù)。 臺(tái)積電明年靠著16納米FinFET Plus及InFO WLP等兩大武器,不僅可以有效對(duì)抗三星及GlobalFoundries的14納米FinFET制程聯(lián)軍,還可回防全球最大
2014-05-07 15:30:16

主流手機(jī)芯片性能排行 2021年手機(jī)CPU性能前十名

日公布,5納米工藝技術(shù)制造8、三星 Exynos 2100:2020年12月12日公布,5納米工藝技術(shù)制造9、蘋果 A13 Bionic:2019年9月10日公布,7納米工藝技術(shù)制造10、高通 驍龍 865 Plus:2020年7月8日公布,7納米工藝技術(shù)制造
2021-12-25 08:00:00

借力意法FD-SOI 三星eMRAM進(jìn)駐MCU早有計(jì)劃

量產(chǎn)中利用意法半導(dǎo)體的FD-SOI技術(shù)。也是在這一年,三星成功生產(chǎn)了8Mb eMRAM,并利用28nmFDS,在2019年成功量產(chǎn)首款商用eMRAM。 據(jù)三星介紹,利用其28nmFDS工藝技術(shù)制作
2023-03-21 15:03:00

電子行業(yè)人士帶你入行之納米制程小白篇

的小珠子,使其最后形成一個(gè)10X5比例的長(zhǎng)方形。從這個(gè)實(shí)驗(yàn)不難看出,要達(dá)成這個(gè)目標(biāo)非常不容易,由此可以了解到,各大廠面臨的困境有多么艱難。三星和臺(tái)積電都在完成14 納米、16 納米 FinFET量產(chǎn)
2016-06-29 14:49:15

電子行業(yè)人士帶你入行之納米制程小白篇

的長(zhǎng)方形。從這個(gè)實(shí)驗(yàn)不難看出,要達(dá)成這個(gè)目標(biāo)非常不容易,由此可以了解到,各大廠面臨的困境有多么艱難。三星和臺(tái)積電都在完成14 納米、16 納米 FinFET量產(chǎn),并以此為資本爭(zhēng)奪下一iPhone
2016-12-16 18:20:11

蘋果芯片供應(yīng)商名單曝光后 三星哭了!

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2016-07-21 17:07:54

中芯國(guó)際將45納米工藝技術(shù)延伸至40納米以及55納米

中芯國(guó)際將45納米工藝技術(shù)延伸至40納米以及55納米 上海2009年10月14日電  -- 中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(“中芯國(guó)際”,紐約
2009-10-15 08:22:441035

Cadence采用FinFET技術(shù)流片14納米芯片

14納米產(chǎn)品體系與芯片是ARM、Cadence與IBM之間在14納米及以上高級(jí)工藝節(jié)點(diǎn)上開(kāi)發(fā)系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)多年努力的重要里程碑。使用FinFET技術(shù)14納米標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)的SoC能夠大幅降低功耗。 這
2012-11-16 14:35:551642

三星、臺(tái)積電將于2013年實(shí)現(xiàn)20納米工藝量產(chǎn)

三星將于2013年采用20納米技術(shù),同時(shí)開(kāi)始建造生產(chǎn)14納米晶體管的工廠。臺(tái)積電也會(huì)在2013年下半年開(kāi)始采用20納米技術(shù)生產(chǎn)晶體管。
2012-12-06 13:53:02913

臺(tái)積電和三星將實(shí)現(xiàn)20納米工藝量產(chǎn)

根據(jù)DigiTimes報(bào)道,三星將于2013年采用20納米技術(shù),同時(shí)開(kāi)始建造生產(chǎn)14納米晶體管的工廠。臺(tái)積電也會(huì)在2013年下半年開(kāi)始采用20納米技術(shù)生產(chǎn)晶體管。 當(dāng)前主流的智能手機(jī)芯片主要由高
2012-12-07 16:54:321466

三星芯片工藝突破14nm 何時(shí)量產(chǎn)仍未確定

GlobalFoundries、Intel都在紛紛宣傳各自的14nm新工藝,三星電子今天也宣布,已經(jīng)在14nm FinFET工藝開(kāi)發(fā)之路上取得又一個(gè)里程碑式的突破,與其設(shè)計(jì)、IP合作伙伴成功流片了多個(gè)開(kāi)發(fā)載具。
2012-12-24 09:28:241508

三星與Synopsys合作實(shí)現(xiàn)首次14納米FinFET成功流片

新思科技公司日前宣布:該公司與三星FinFET技術(shù)上的多年合作已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了一個(gè)關(guān)鍵性的里程碑,即采用三星14LPE工藝成功實(shí)現(xiàn)了首款測(cè)試芯片的流片
2013-01-09 12:11:311469

東芝第二19納米工藝NAND閃存即將投入量產(chǎn)

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2013-05-23 10:34:251518

聯(lián)華電子與SuVolta宣布聯(lián)合開(kāi)發(fā)28納米低功耗工藝技術(shù)

日前,聯(lián)華電子與SuVolta公司宣布聯(lián)合開(kāi)發(fā)28納米工藝技術(shù),該工藝將SuVolta的SuVolta的Deeply Depleted Channel晶體管技術(shù)集成到聯(lián)華電子的28納米High-K/Metal Gate高效能移動(dòng)工藝。
2013-07-25 10:10:521458

三星確認(rèn)驍龍 820 使用第二 14nm FinFET 工藝

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2016-01-15 17:24:241377

Mentor Graphics 優(yōu)化工具和流程助設(shè)計(jì)師成功應(yīng)對(duì) 三星代工廠10 納米 FinFET 工藝

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2016-03-11 14:39:211627

三星研發(fā)第三代14納米制程 意圖搶單臺(tái)積電

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驍龍830將采用三星10nm工藝獨(dú)家制造 S8將搭載

近日,三星電子宣布已經(jīng)開(kāi)始采用10nm FinFET工藝量產(chǎn)邏輯芯片,三星也成為了業(yè)內(nèi)首家大規(guī)模采用10納米工藝的廠商。前段時(shí)間,韓國(guó)《電子時(shí)報(bào)》報(bào)道,高通的下一旗艦處理器高通驍龍830(或835
2016-10-18 14:06:101450

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2016-12-05 20:08:05788

傳臺(tái)積電、三星電子10納米制程量產(chǎn)卡關(guān)

因此連帶調(diào)整新一5納米制程領(lǐng)軍舵手;至于三星為高通(Qualcomm)操刀的10納米制程亦因?yàn)榱悸蕟?wèn)題,迫使部分芯片轉(zhuǎn)回14納米制程生產(chǎn),業(yè)者認(rèn)為10納米制程恐成為歷年來(lái)導(dǎo)入量產(chǎn)最不順利的半導(dǎo)體世代。不過(guò),相關(guān)消息仍待臺(tái)積電、三星證實(shí)。
2016-12-22 10:17:15947

三星宣布已經(jīng)完成第二10nm的質(zhì)量驗(yàn)證工作

三星今天宣布,繼去年10月率先量產(chǎn)10nm工藝移動(dòng)芯片后,日前已經(jīng)完成了第二10nm的質(zhì)量驗(yàn)證工作,即將量產(chǎn)。
2017-04-22 01:08:12883

三星宣布第二10nm制程已完成開(kāi)發(fā)

三星上周四宣布,第二10納米FinFET制程已經(jīng)開(kāi)發(fā)完成,未來(lái)爭(zhēng)取10納米產(chǎn)品代工訂單將如虎添翼。 三星第一10納米制程于去年10月領(lǐng)先同業(yè)導(dǎo)入量產(chǎn),目前的三星Exynos 9與高通驍龍835處理器均是以第一10納米制程生產(chǎn)。
2017-04-25 01:08:11746

三星10nm工藝技術(shù)已經(jīng)在Galaxy S8上提供支持

三星10納米工藝技術(shù)公告:全球領(lǐng)先的三星電子先進(jìn)的半導(dǎo)體元器件技術(shù)正式宣布,其第二10納米(nm)FinFET工藝技術(shù),10LPP(Low Power Plus)已經(jīng)合格并準(zhǔn)備就緒用于批量生產(chǎn)。
2017-05-03 01:00:11815

Cadence數(shù)字、簽核與定制/模擬工具助力實(shí)現(xiàn)三星7LPP和8LPP工藝技術(shù)

2017年6月2日,上?!请娮樱绹?guó) Cadence 公司,NASDAQ: CDNS) 今日宣布其數(shù)字、簽核與定制/模擬工具成功在三星電子公司7LPP和8LPP工藝技術(shù)上實(shí)現(xiàn)。較前代高階工藝
2017-06-02 16:04:341668

淺析TSMC和FinFET工藝技術(shù)的Mentor解決方案

Technology (12FFC) 和最新版本 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。Nitro-SoCTM 布局和布線系統(tǒng)也通過(guò)了認(rèn)證,可以支持 TSMC 的 12FFC 工藝技術(shù)。
2017-10-11 11:13:423455

三星開(kāi)始量產(chǎn)第二10納米級(jí)制程工藝DRAM內(nèi)存芯片

據(jù)韓聯(lián)社北京時(shí)間12月20日?qǐng)?bào)道,三星電子今天宣布,已開(kāi)始量產(chǎn)第二10納米級(jí)制程工藝DRAM內(nèi)存芯片。
2017-12-29 11:15:417019

三星曾落后于臺(tái)積電,想在6納米技術(shù)上加速前進(jìn)

三星電子準(zhǔn)備調(diào)整鑄造技術(shù)藍(lán)圖,2019年下半年開(kāi)始量產(chǎn)6納米芯片。按照原來(lái)的計(jì)劃,三星本打算在2019年試產(chǎn)6納米芯片。在7納米技術(shù)上,三星落后于臺(tái)積電,現(xiàn)在它想在6納米技術(shù)上加速前進(jìn)。
2018-03-14 16:41:425956

7nm芯片成為今年旗艦處理器標(biāo)配 三星宣布5/4/3nm工藝技術(shù)

關(guān)鍵詞。 而作為芯片制造的一大頭,三星此前也已經(jīng)宣布了其7nm LPP工藝將會(huì)在2018年下半年投入生產(chǎn),此外,在昨天的Samsung Foundry Forum論壇上,三星更是直接宣布了5/4/3nm工藝技術(shù)。
2018-05-25 11:09:004079

三星被判侵犯FinFET工藝專利 須賠償4億美元

根據(jù)美國(guó)德克薩斯州聯(lián)邦法院的裁決,三星電子侵犯了一家韓國(guó)大學(xué)關(guān)于雙柵極FinFET半導(dǎo)體工藝技術(shù)專利,必須賠償4億美元。
2018-06-22 16:28:344459

為追趕臺(tái)積電,三星宣布攜手ARM進(jìn)一步優(yōu)化7納米及5納米制程芯片

雖然2018年包括臺(tái)積電、三星、格羅方德都要導(dǎo)入7納米制程技術(shù)。其中,三星為了追趕臺(tái)積電,還在首的7納米(LPP)制程中導(dǎo)入EUV技術(shù)。不過(guò),臺(tái)積電也非省油的燈,除了積極布局7納米制程技術(shù)之外
2018-07-06 15:01:004225

中芯14納米FinFET制程良率達(dá)95%,預(yù)計(jì)2019量產(chǎn)

中芯國(guó)際最新的14納米FinFET制程已接近研發(fā)完成階段,其試產(chǎn)的良率已經(jīng)可以達(dá)到95%的水準(zhǔn),距離2019年正式量產(chǎn)的目標(biāo)似乎已經(jīng)不遠(yuǎn)
2018-07-06 15:23:524048

ANSYS宣布14納米FinFET制程技術(shù)獲聯(lián)電認(rèn)證

ANSYS宣布其ANSYS RedHawk和ANSYSR Totem獲聯(lián)華電子(UMC)的先進(jìn)14納米FinFET制程技術(shù)認(rèn)證。ANSYS和聯(lián)電透過(guò)認(rèn)證和完整套裝半導(dǎo)體設(shè)計(jì)解決方案,支援共同客戶滿足下一行動(dòng)和高效能運(yùn)算(HPC)應(yīng)用不斷成長(zhǎng)的需求。
2018-07-17 16:46:004095

三星10nm工藝性能方面如何? 7nm工藝是極限了嗎?

與上一14納米FinFET工藝相比,三星10納米工藝在減少30%芯片尺寸基礎(chǔ)上,實(shí)現(xiàn)性能提升27%或高達(dá)40%功耗降低。讓OEM廠商能夠在即將發(fā)布的產(chǎn)品中獲得更多可用空間,以支持更大的電池或更輕薄的設(shè)計(jì)。
2018-07-22 11:13:495153

Qualcomm和三星展開(kāi)合作,采用10納米制程工藝打造最新驍龍?zhí)幚砥?/a>

三星7nm LPP工藝進(jìn)入量產(chǎn),Intel重申10nm工藝進(jìn)展良好

在Samsung Tech Day上,三星宣布7LPP工藝進(jìn)入量產(chǎn),并表示基于EUV光刻技術(shù)的7LPP工藝對(duì)比現(xiàn)有的10nm FinFET工藝,可以提高20%性能、降低50%功耗、提升40%面積能效。
2018-10-22 10:05:404449

10納米DRAM制程競(jìng)爭(zhēng)升溫,SK海力士、美光加速追趕三星

2018-11-12 13:24 | 查看: 21 | 評(píng)論: 0 | 來(lái)自: 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 摘要 : 10納米級(jí)DRAM先進(jìn)制程競(jìng)爭(zhēng)逐漸升溫,三星電子在2017年率先宣布量產(chǎn)第二10納米(1y
2018-11-12 18:04:02533

三星采用第二10nm工藝級(jí)別的DRAM芯片量產(chǎn)

三星電子今天宣布,開(kāi)始量產(chǎn)業(yè)界首款、采用第二10nm工藝(1y-nm)級(jí)別的DRAM芯片。
2018-12-11 09:40:551196

三星表示將在2019下半年量產(chǎn)內(nèi)含EUV技術(shù)的7納米制程 2021年量產(chǎn)3納米GAA制程

為了減低近期存儲(chǔ)器降價(jià)帶來(lái)的沖擊,全球存儲(chǔ)器龍頭三星逐漸強(qiáng)化晶圓代工業(yè)務(wù),希望有機(jī)會(huì)進(jìn)一步拉近與臺(tái)積電的差距。在先進(jìn)制程的發(fā)展方面,根據(jù)三星高層表示,將在 2019 下半年量產(chǎn)內(nèi)含 EUV技術(shù)的 7 納米制程,而 2021 年量產(chǎn)更先進(jìn)的 3 納米 GAA 制程。
2019-01-14 14:47:443904

三星宣布開(kāi)發(fā)出業(yè)內(nèi)首款基于第三代10nm級(jí)工藝的DRAM內(nèi)存芯片

3月21日,三星電子宣布開(kāi)發(fā)出業(yè)內(nèi)首款基于第三代10nm級(jí)工藝的DRAM內(nèi)存芯片,將服務(wù)于高端應(yīng)用場(chǎng)景,這距離三星量產(chǎn)1y nm 8Gb DDR4內(nèi)存芯片僅過(guò)去16個(gè)月。
2019-03-21 16:43:083840

三星電子將開(kāi)發(fā)首款基于第三代10nm級(jí)工藝DRAM內(nèi)存芯片,下半年量產(chǎn)

三星電子宣布開(kāi)發(fā)出業(yè)內(nèi)首款基于第三代10nm級(jí)工藝的DRAM內(nèi)存芯片,將服務(wù)于高端應(yīng)用場(chǎng)景,這距離三星量產(chǎn)1y nm 8Gb DDR4內(nèi)存芯片僅過(guò)去16個(gè)月。
2019-03-24 11:36:164320

三星三代10nm工藝DDR4內(nèi)存下半年量產(chǎn)

關(guān)鍵詞:DRAM , DDR4 三星電子宣布開(kāi)發(fā)出業(yè)內(nèi)首款基于第三代10nm級(jí)工藝的DRAM內(nèi)存芯片,將服務(wù)于高端應(yīng)用場(chǎng)景,這距離三星量產(chǎn)1y nm 8Gb DDR4內(nèi)存芯片僅過(guò)去16個(gè)月。量產(chǎn)時(shí)間
2019-03-29 07:52:01588

三星7納米EUV制程量產(chǎn)預(yù)計(jì)在2020年底前達(dá)成

在當(dāng)前全球晶圓制造的先進(jìn)制程領(lǐng)域中,只剩下臺(tái)積電、三星以及英特爾可以一較高下。三星雖然早在 2018 年 10 月份就已經(jīng)宣布量產(chǎn) 7 納米 EUV 制程,但實(shí)際情況并非如此。因?yàn)榫瓦B三星自己
2019-04-03 17:21:043414

三星宣布成功完成基于EUV的5nm制程開(kāi)發(fā) 彰顯科技引領(lǐng)力

包括7nm批量生產(chǎn)和6nm產(chǎn)品的流片, 三星電子在基于EUV技術(shù)的先進(jìn)制程工藝開(kāi)發(fā)上取得重大進(jìn)展 4月16日,三星電子宣布,其5nm FinFET( 鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)工藝技術(shù)已經(jīng)開(kāi)發(fā)完成,該技術(shù)
2019-04-18 20:48:54636

三星宣布已完成5納米FinFET工藝技術(shù)開(kāi)發(fā)

4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開(kāi)發(fā),現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶提供樣品。
2019-04-16 17:27:233799

一圖看懂三星14nm工藝到3nm工藝的區(qū)別

在上周的美國(guó)SFF晶圓代工論壇上,三星發(fā)布了新一的邏輯工藝路線圖,2021年就要量產(chǎn)3nm工藝了,而且首發(fā)使用新一GAA晶體管工藝,領(lǐng)先對(duì)手臺(tái)積電1年時(shí)間,領(lǐng)先Intel公司至少2-3年時(shí)間。
2019-05-20 16:43:4512335

三星發(fā)布新一3nm閘極全環(huán)工藝 在GAA工藝上獲得領(lǐng)先地位

近年來(lái),在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)環(huán)境下,三星將其業(yè)務(wù)重點(diǎn)轉(zhuǎn)向了邏輯工藝代工。在近日的SFF(SamsungFoundry Forum)美國(guó)分會(huì)上,三星宣布了四種FinFET工藝,涵蓋了7nm到4nm。同時(shí)
2019-05-30 15:53:464391

新思科技成為首個(gè)獲得三星EUV技術(shù)5LPE工藝認(rèn)證的平臺(tái)

新思科技近日宣布三星(Samsung Electronics)認(rèn)證了新思科技Fusion Design Platform?,用于三星采用EUV光刻技術(shù)的5納米Low-Power Early(早期
2019-06-12 13:48:354326

Synopsys學(xué)習(xí)平臺(tái)加速三星新品量產(chǎn)

三星基于新思科技Yield Explorer加速7納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的新品量產(chǎn)
2019-08-13 14:31:373552

百度首款A(yù)I芯片昆侖完成研發(fā) 將由三星代工生產(chǎn)

今日據(jù)外媒報(bào)道,百度和三星宣布,百度首款A(yù)I芯片昆侖已經(jīng)完成研發(fā),將由三星代工生產(chǎn)。該芯片使用的是三星14nm工藝技術(shù),封裝解決方案采用的是I-Cube TM。明年年初,昆侖芯片將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
2019-12-18 10:55:202152

基于三星14納米工藝的百度昆侖AI芯片將量產(chǎn)

這是三星電子和百度的首次半導(dǎo)體代工合作。百度昆侖AI芯片結(jié)合百度自主研發(fā)的神經(jīng)處理器架構(gòu)XPU和三星14納米制造工藝,采用I-Cube封裝解決方案,可廣泛用于云計(jì)算和邊緣計(jì)算。
2019-12-19 14:11:233625

三星3納米芯片面積比5納米縮小35%以上

三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕近日參觀正在開(kāi)發(fā)“全球第一個(gè)3納米級(jí)半導(dǎo)體工藝”的韓國(guó)京畿道華城半導(dǎo)體工廠,并聽(tīng)取了關(guān)于3納米工藝技術(shù)的報(bào)告,他還與三星電子半導(dǎo)體部門社長(zhǎng)團(tuán)討論了新一半導(dǎo)體戰(zhàn)略。
2020-01-06 10:42:585045

三星開(kāi)始批量生產(chǎn)6納米芯片,縮小與臺(tái)積電差距

三星于去年4月向全球客戶提供7納米產(chǎn)品,自開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)7納米產(chǎn)品以來(lái),三星僅在八個(gè)月內(nèi)就推出了6納米產(chǎn)品。三星的微加工工藝技術(shù)升級(jí)周期正在縮短,特別是向6納米EUV工藝的過(guò)渡有望縮小與全球第一大晶圓代工廠臺(tái)積電(TSMC)的差距。
2020-01-06 11:40:033622

三星16GB LPDDR5宣布量產(chǎn),可節(jié)省超過(guò)20%的功耗

三星電子今天宣布已經(jīng)開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)業(yè)內(nèi)第一個(gè)16GB 的 LPDDR5移動(dòng) DRAM 封裝,基于三星第二10nm級(jí)工藝技術(shù),可提供業(yè)界最高的性能和最大的容量,用于下一高端智能手機(jī)。繼2019年7
2020-02-25 13:48:202465

三星3nm工藝明年量產(chǎn)不太可能實(shí)現(xiàn)

據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在5nm工藝即將大規(guī)模量產(chǎn)的情況下,3nm工藝就成了臺(tái)積電和三星這兩大芯片代工商關(guān)注的焦點(diǎn),三星電子旗下的三星晶圓代工,此前設(shè)定的目標(biāo)是在2021年大規(guī)模量產(chǎn)3nm工藝
2020-04-07 17:43:512632

三星宣布硅驗(yàn)證3D IC封裝技術(shù)投入使用

日前,三星電子宣布,由三星為業(yè)內(nèi)最先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)專門研發(fā)的硅驗(yàn)證3D IC封裝技術(shù),eXtended-Cube,簡(jiǎn)稱為X-cube,已經(jīng)可以投入使用。
2020-08-14 17:24:393057

三星電子奮力趕超臺(tái)積電,計(jì)劃在2022 年量產(chǎn) 3 納米芯片

2022 年量產(chǎn) 3 納米芯片。該高管透露,三星電子已在與主要合作方開(kāi)發(fā)初步設(shè)計(jì)工具。 三星電子向其下一芯片業(yè)務(wù)投入 1160 億美元,其中包括為外部客戶制造芯片。 三星電子領(lǐng)導(dǎo)人李在镕此前曾透露,該公司計(jì)劃采用正在開(kāi)發(fā)的最新 3 納米全柵極 (gate-all-around,簡(jiǎn)稱 GAA)工藝技術(shù)來(lái)
2020-11-19 11:39:071911

三星計(jì)劃在2年內(nèi)追上臺(tái)積電,2022年將量產(chǎn)3nm工藝

三星追趕臺(tái)積電的關(guān)鍵是在下一的3nm上,因?yàn)檫@一代工藝三星押注了GAA環(huán)繞柵極晶體管,是全球第一家導(dǎo)入GAA工藝以取代FinFET工藝的,而臺(tái)積電比較保守,3nm還是用FinFET2nm上才會(huì)使用GAA工藝。
2020-11-19 11:36:301777

三星投入7608億實(shí)現(xiàn)3納米制程2022年量產(chǎn)

據(jù)彭博社報(bào)道,三星全力發(fā)展晶圓代工業(yè)務(wù),規(guī)劃投入1160億美元(約合人民幣7608億元),目標(biāo)實(shí)現(xiàn)3納米制程2022年量產(chǎn),與臺(tái)積電同步,是兩強(qiáng)近年先進(jìn)制程競(jìng)逐賽中,最接近的一次。業(yè)界認(rèn)為,若三星
2020-11-26 14:44:262550

臺(tái)積電 FinFET三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)遇瓶頸,量產(chǎn)時(shí)間恐將推遲

據(jù) Digitimes 報(bào)道,業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電 FinFET三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)的開(kāi)發(fā)過(guò)程中都遇到了不同但關(guān)鍵的瓶頸。報(bào)道稱,臺(tái)積電和三星因此將不得不推遲 3nm 制程工藝
2021-01-04 16:20:103024

三星宣布其基于柵極環(huán)繞型晶體管架構(gòu)的3nm工藝技術(shù)已經(jīng)正式流片

目前從全球范圍來(lái)說(shuō),也就只有臺(tái)積電和三星這兩家能做到5納米工藝以下了。6月29日晚間,據(jù)外媒報(bào)道,三星宣布其基于柵極環(huán)繞型 (Gate-all-around,GAA) 晶體管架構(gòu)的3nm工藝技術(shù)已經(jīng)
2021-07-02 11:21:543387

三星3nm芯片量產(chǎn) 2nm芯片還遠(yuǎn)嗎

FinFET)的進(jìn)階,4D(GAA)技術(shù)被認(rèn)為是“下一”的晶體管技術(shù)。根據(jù)三星的數(shù)據(jù),相較三星5納米(nm)而言,優(yōu)化的3納米(nm)工藝,性能提高23%,功耗降低45%,芯片面積減少16%。 另外,每一個(gè)新工藝新制程的成本和良品率,都是影響新工藝新制程是否能夠大范圍普及的重
2022-06-30 20:21:522069

三星2nm量產(chǎn)時(shí)間 三星2nm有自己的光刻機(jī)嗎

隨著臺(tái)積電曝光2nm制程的進(jìn)展后,三星緊追其后也宣布了關(guān)于2nm制程的最新消息,三星2nm的量產(chǎn)時(shí)間也定在了2025年,跟臺(tái)積電的差不多。這次2nm制程是三星這些年來(lái)首次追上了臺(tái)積電,比以往快了不少。
2022-07-01 09:59:085174

三星2nm芯片最新消息

根據(jù)外媒的消息報(bào)道稱,三星電子公司近日正式宣布已開(kāi)始量產(chǎn)3納米芯片,三星電子正押注于將 GAA 技術(shù)應(yīng)用于3 納米工藝,并且計(jì)劃于2025年量產(chǎn)基于GAA的2nm芯片,以追趕臺(tái)積電。
2022-07-04 09:34:041906

三星代工廠宣布3納米節(jié)點(diǎn)已進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)階段

三星最新的生產(chǎn)工藝技術(shù)是他們的4nm節(jié)點(diǎn)。該節(jié)點(diǎn)去年年底提高了產(chǎn)量。這是他們最后一個(gè)基于FinFET的前沿工藝技術(shù),盡管不是他們計(jì)劃中的最后一個(gè)。
2022-09-09 14:27:18954

智原宣布支持三星14納米LPP工藝的IP硅智財(cái)并已上架

ASIC設(shè)計(jì)服務(wù)暨IP研發(fā)銷售廠商智原科技(Faraday Technology Corporation,TWSE:3035)今日宣布其支持三星14納米LPP工藝的IP硅智財(cái)已在三星SAFE IP平臺(tái)上架,提供三星晶圓廠客戶采用。
2022-10-14 17:39:021955

三星開(kāi)始量產(chǎn)8V-NAND,存儲(chǔ)密度高達(dá)1Tb

和2022年度三星內(nèi)存技術(shù)日上所承諾的,三星今日宣布,已開(kāi)始量產(chǎn)三星產(chǎn)品中具有最高存儲(chǔ)密度的1Tb(太字節(jié))比特單元(TLC)8V-NAND。1Tb的全新V-NAND在目前三星V-NAND中具有最高的存儲(chǔ)密度,可為全球企業(yè)系統(tǒng)提供容量更大、密度更高的存儲(chǔ)解決方案。 三星電子第八V-NAND,
2022-11-08 13:37:361624

三星首款12納米級(jí)DDR5 DRAM開(kāi)發(fā)成功

-三星電子新款DRAM將于2023年開(kāi)始量產(chǎn),以優(yōu)異的性能和更高的能效,推動(dòng)下一計(jì)算、數(shù)據(jù)中心和AI應(yīng)用的發(fā)展 官方發(fā)布? ? 2022年12月21日,三星電子宣布,已成功開(kāi)發(fā)出其首款采用12納米
2022-12-21 11:08:291205

三星電子首款12納米級(jí)DDR5 DRAM開(kāi)發(fā)成功

款采用12納米(nm)級(jí)工藝技術(shù)打造的16 Gb DDR5 DRAM,并與AMD一起完成了兼容性方面的產(chǎn)品評(píng)估。 三星電子首款12納米級(jí)DDR5 DRAM 三星電子高級(jí)副總裁兼DRAM產(chǎn)品與技術(shù)負(fù)責(zé)人
2022-12-21 21:19:541342

三星電子5納米工藝由安霸應(yīng)用于全新汽車Al域控制器芯片

CV3-AD685是安霸CV3-AD汽車AI域控制器系列的首個(gè)量產(chǎn)型號(hào),同時(shí),多家一級(jí)(Tier-1)汽車供應(yīng)商宣布他們將提供使用CV3-AD系列SoC的解決方案。三星三代5納米車規(guī)工藝,針對(duì)車規(guī)級(jí)半導(dǎo)體優(yōu)化,憑借極其嚴(yán)格的工藝管控和先進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)(IP),擁有卓越的可靠性和可追溯性。
2023-03-01 11:05:471391

三星3納米良率不超過(guò)20% 將重新擬定制程工藝時(shí)間節(jié)點(diǎn)

三星最新公布的制程工藝技術(shù)路線圖顯示,該公司計(jì)劃在2025年開(kāi)始量產(chǎn)2納米級(jí)SF2工藝,以滿足客戶對(duì)高性能處理器的需求。此前,三星已于今年公布,其3納米工藝已滿足大規(guī)模生產(chǎn)的標(biāo)準(zhǔn)。
2023-06-29 16:26:332318

三星宣布開(kāi)發(fā)業(yè)界首款車用級(jí)5nm eMRAM

三星在會(huì)上表示,作為新一汽車技術(shù),正在首次開(kāi)發(fā)5nm eMRAM。三星計(jì)劃到2024年為止,用14納米工程增加mbram產(chǎn)品有價(jià)證券組合,2年后升級(jí)為8納米制程。
2023-10-23 09:57:221309

淺談三星SF1.4(1.4 納米級(jí))工藝技術(shù)

2025 年,三星預(yù)計(jì)將推出 SF22nm 級(jí))制造工藝,該工藝不僅依賴 GAA 晶體管,還將采用背面功率傳輸,這在晶體管密度和功率傳輸方面帶來(lái)了巨大的好處,
2023-11-01 12:34:141856

三星計(jì)劃:3年內(nèi)實(shí)現(xiàn)2納米量產(chǎn)

10月19日,韓國(guó)三星電子在德國(guó)慕尼黑舉辦了名為「三星代工論壇2023」的活動(dòng)。在這個(gè)活動(dòng)上,三星電子以霸氣十足的姿態(tài)公布了其芯片制造的先進(jìn)工藝路線圖和代工戰(zhàn)略,宣稱將在未來(lái)3年內(nèi)量產(chǎn)2納米
2023-11-01 15:07:53988

臺(tái)積電全包!三星痛失高通明年3納米訂單

三星去年6 月底量產(chǎn)第一3 納米GAA (SF3E) 制程,為三星首次采用全新GAA 架構(gòu)晶體管技術(shù),而第二3 納米制程3GAP(SF3) 將使用第二MBCFET 架構(gòu),從第一3 納米SF3E基礎(chǔ)上再最佳化,預(yù)期2024 年進(jìn)入量產(chǎn)階段。
2023-12-04 15:55:371251

新思科技攜手Ansys和三星共同開(kāi)發(fā)14LPU工藝的全新射頻集成電路設(shè)計(jì)

新思科技(Synopsy)近日宣布,攜手Ansys 、三星半導(dǎo)體晶圓代工(以下簡(jiǎn)稱“三星”)共同開(kāi)發(fā)了面向三星14LPU工藝的全新射頻集成電路(RFIC)設(shè)計(jì)參考流程
2023-12-11 18:25:551456

Samsung研發(fā)第二3納米工藝 SF3

據(jù)報(bào)道,韓國(guó)三星代工廠已經(jīng)開(kāi)始試制其第二 3 納米級(jí)別工藝技術(shù)的芯片,稱為 SF3。這一發(fā)展標(biāo)志著半導(dǎo)體行業(yè)的一個(gè)重要里程碑,因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">三星與臺(tái)積電競(jìng)爭(zhēng)下一先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)主導(dǎo)權(quán)。韓國(guó)知名權(quán)威
2024-01-22 16:10:141629

三星與Arm攜手,運(yùn)用GAA工藝技術(shù)提升下一Cortex-X CPU性能

三星繼續(xù)推進(jìn)工藝技術(shù)的進(jìn)步,近年來(lái)首次量產(chǎn)了基于2022年GAA技術(shù)的3nm MBCFET ? 。GAA技術(shù)不僅能夠大幅減小設(shè)備尺寸,降低供電電壓,增強(qiáng)功率效率,同時(shí)也能增強(qiáng)驅(qū)動(dòng)電流,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)更高的性能表現(xiàn)。
2024-02-22 09:36:011291

三星攜手高通共探2nm工藝新紀(jì)元,為芯片技術(shù)樹(shù)立新標(biāo)桿

三星與高通的合作正在不斷深化。高通計(jì)劃采納三星代工工廠的尖端全柵極(GAA)工藝技術(shù),以優(yōu)化和開(kāi)發(fā)下一ARM Cortex-X CPU。
2024-02-25 15:31:181650

三星半導(dǎo)體將其“第二3納米工藝正式更名為“2納米”!

近期,科技巨頭三星半導(dǎo)體做出了一個(gè)引人注目的決策:將其“第二3納米工藝正式更名為“2納米”。
2024-03-06 13:42:141890

三星與新思科技攜手,備戰(zhàn)2nm工藝量產(chǎn)

在全球半導(dǎo)體行業(yè)邁向更高精度和更小尺寸的征途上,三星與新思科技近日宣布了一項(xiàng)重要的合作。這一合作旨在確保三星2nm制造工藝能夠順利實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),并在市場(chǎng)中占據(jù)領(lǐng)先地位。
2024-06-20 09:22:17964

概倫電子NanoSpice通過(guò)三星代工廠3/4nm工藝技術(shù)認(rèn)證

概倫電子(股票代碼:688206.SH)近日宣布其新一大容量、高性能并行SPICE仿真器NanoSpice通過(guò)三星代工廠3/4nm工藝技術(shù)認(rèn)證,滿足雙方共同客戶對(duì)高精度、大容量和高性能的高端電路仿真需求。
2024-06-26 09:49:141378

三星9V-NAND采用鉬金屬布線技術(shù)

據(jù)韓國(guó)媒體最新報(bào)道,三星電子在其9V-NAND閃存技術(shù)中實(shí)現(xiàn)了重大突破,首次在“金屬布線”工藝中引入了鉬(Mo)技術(shù)。這一創(chuàng)新標(biāo)志著三星在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的又一次技術(shù)飛躍。
2024-07-04 09:23:501262

三星量產(chǎn)第四4nm芯片

據(jù)外媒曝料稱三星量產(chǎn)第四4nm芯片。報(bào)道中稱三星自從2021年首次量產(chǎn)4nm芯片以來(lái),每年都在改進(jìn)技術(shù)。三星現(xiàn)在使用的是其最新的第四4nm工藝節(jié)點(diǎn)(SF4X)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。第四4nm工藝
2025-03-12 16:07:1713208

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