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回顧關(guān)于MOS-AK 北京器件模型會議可靠性報告的發(fā)展

弘模半導(dǎo)體 ? 來源:djl ? 2019-09-08 10:07 ? 次閱讀
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2018年6月14-16日在北京清華舉辦的MOS-AK 北京器件模型國際會議收到了幾篇器件模型可靠性的報告,總體來說,器件模型可靠性雖然屬于模型中的小眾方向,但是對于特別環(huán)境下的電路設(shè)計 ,做到Design for Reliablity非常重要,這增加了設(shè)計,產(chǎn)品本身的附加價值,同時也讓擁有可靠性模型的設(shè)計團(tuán)隊,處于細(xì)分市場的領(lǐng)先地位,不容易被模仿。下面簡單介紹來自于Cogenda, Synopsys, Cadence, SIMIT 的報告前瞻。

1. 3D Simulations of Single-Event Effects in Power MOSFETs : Burn-out, Latch-up and Hardening by Design

功率MOSFET, LDMOS,VDMOS頻繁用于太空的載星電子系統(tǒng),而他們?nèi)菀卓赡茉獾絾瘟W訜龤В⊿EB)和單粒子鎖定(SEL) 效應(yīng)導(dǎo)致失效。

先前的研究都是基于二維模擬進(jìn)行,導(dǎo)致模擬準(zhǔn)確性有限制,由于單粒子效應(yīng)在非常密集的電子-空穴對的薄軌道上非常局部化,在縱向和所有橫向方向上都分散,因此限制在2D中的模擬嚴(yán)重低估了這個現(xiàn)象。報告主要通過3D TCAD來模擬VDMOS的SEB和LDMOS 的SEL現(xiàn)象,獲得進(jìn)一步驗證。

回顧關(guān)于MOS-AK 北京器件模型會議可靠性報告的發(fā)展

這篇報告對于做這個方向的電路設(shè)計的工作者,非常好的指導(dǎo),必須在前期的設(shè)計中考慮當(dāng)前使用模型本身的局限性,通過TCAD仿真和模型的再開發(fā),延伸,讓電路中使用的模型更貼切實際。

2. A Novel Method of Total Ionizing Dose Compact Modeling in PD SOI MOSFETs

SOI 是非常熱門的一個方向,應(yīng)用很廣泛,隨著半導(dǎo)體工藝的進(jìn)步,小尺寸SOI MOSFET開始應(yīng)用到航空航天領(lǐng)域,使得器件在使用中面臨了深空輻射環(huán)境的挑戰(zhàn)。本篇報告對部分耗盡型PD-SOI MOSFET,提出了一種新的總電離劑量TID建模方法,開發(fā)了一個用于TID模型提取的專用軟件TID FIT。為了驗證新模型,進(jìn)行了射線輻照實驗,并且在測量和模擬結(jié)果之間取得很好的一致性。這篇報告給設(shè)計人員提供了很好的工具,讓電路設(shè)計獲得更準(zhǔn)確的仿真結(jié)果,提高電路性能。

回顧關(guān)于MOS-AK 北京器件模型會議可靠性報告的發(fā)展

3. Challenges and Solutions in Modeling and Simulation of Device Self-heating, Reliability Aging and Statistical Variability Effects

FinFET和FDSOI是先進(jìn)的工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)采用的新的器件創(chuàng)新來繼續(xù)保持摩爾定律。在這些器件結(jié)構(gòu)中,器件自熱效應(yīng)(SHE)和應(yīng)力引起的器件可靠性老化效應(yīng)變得更加突出,并且必須考慮到設(shè)計關(guān)斷的影響。此外,用于高壓、高功率汽車應(yīng)用的BCD工藝還需要器件老化和自熱感知的設(shè)計和驗證,因為ISO26262對汽車相關(guān)產(chǎn)品提出的越來越嚴(yán)格的可靠性和安全性要求,所以需要一種有效的基于仿真的失效模式影響分析(FMEA)和失效模式效應(yīng)和診斷分析(FMEDA)來確定產(chǎn)品的安全水平,并通過系統(tǒng)的方法,把器件老化,自熱和統(tǒng)計變異性的影響考慮進(jìn)去,而傳統(tǒng)的緊湊型模型已不再足夠,SPICE級電路仿真產(chǎn)品也需要定義和擴(kuò)展,用以確保越來越復(fù)雜的設(shè)計和驗證要求。

4. A Complete Reliability Solution: Reliability Modeling, Applications, and Integration in Analog Design Environment

報告介紹完整的工業(yè)級可靠性解決方案,包括可靠性建模(AGEMOS和AGEMOS2)、可靠性蒙特卡洛分析方法和可靠性模擬設(shè)計環(huán)境(ADE)集成。AGEMOS是在擁有眾多用戶和各種各樣的反饋下,內(nèi)容非常豐富。先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)有新的可靠性效應(yīng),如HCI飽和效應(yīng),AGEMOS2是為了解決在FinFET HCI和BTI老化中發(fā)現(xiàn)的各種問題, 而且AGEMOS2具有準(zhǔn)確的NBTI恢復(fù)效應(yīng)模型 。 隨著器件幾何尺寸的縮小,必須考慮器件本身的變化,開發(fā)出能夠考慮器件加工變化和可靠性老化變化的蒙特卡洛方法,并考慮加工與可靠性老化變化的相關(guān)性??煽啃悦商乜蹇梢杂脕眚炞C設(shè)計的魯棒性和良率??煽啃阅P秃吞卣骷傻紺adence模擬設(shè)計環(huán)境(ADE)中,為設(shè)計者提供了執(zhí)行各種可靠性仿真和分析的簡單方法。目前,所有這些功能都得到了仿真器的支持,為設(shè)計者提供更準(zhǔn)確的接近產(chǎn)品實際結(jié)果的仿真。

隨著電子產(chǎn)品應(yīng)用的廣泛,在不同領(lǐng)域,比如汽車、醫(yī)療、工業(yè)、航天天空及國防應(yīng)用等產(chǎn)品都會遇到生命週期可靠性的問題,因此,在這個層面,基于半導(dǎo)體廠工藝的模型開發(fā)是重中之重,同時如何和EDA廠商合作,獲得接近產(chǎn)品實際特性的仿真結(jié)果也有很多協(xié)同工作要做。有一點(diǎn)可以確認(rèn),模型從業(yè)人員通過模型二次開發(fā)的核心價值來獲得獨(dú)特的設(shè)計這個角度去看,相信將來會有很多基于模型擴(kuò)展基礎(chǔ)上的小而美的設(shè)計公司創(chuàng)立,因為歐洲已經(jīng)有很多創(chuàng)新公司值得我們借鑒。

本次MOS-AK北京活動的具體日程安排,可以點(diǎn)擊“閱讀原文”獲得。目前安排20篇演講報告,其中防輻射,高可靠性模型這塊的報告有4篇, III-V族高頻微波有7篇, 先進(jìn)節(jié)點(diǎn)有3篇,器件基礎(chǔ)原理有2 篇,電路產(chǎn)品應(yīng)用有2篇,模型,測試平臺相關(guān)的2篇。

歐盟項目進(jìn)展:

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