作為半導體芯片生產過程中最重要的裝備，光刻機一直牽動人心。事實上，制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。

光刻是半導體芯片制造中最費時間也是最費成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平，10nm工藝之后難度越來越大，光刻機也需要升級到EUV級別。

ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài)，如果沒有EUV光刻機，那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片的。

目前ASML公司是唯一一個能生產EUV光刻機的公司，他們做出這樣的表態(tài)其實也不讓人意外，畢竟這是一臺售價高達1.2億歐元、約合10億一臺的高端設備，全球半導體制造廠商都要看ASML的臉色。

臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機，但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片，但是成本、良率都是個問題，無法拒絕EUV光刻機。