AMSL公布最先進(jìn)光刻機(jī)的最新進(jìn)程 生產(chǎn)率已提高18%
10月14日，荷蘭ASML（阿斯麥）公布了光刻機(jī)產(chǎn)品的最新進(jìn)展。
其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進(jìn)光刻機(jī)系統(tǒng)，終于敲定最終規(guī)格。
具體來說，30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1nm。
3600D定于2021年中旬出貨交付，客戶還需要一定時間等待，價格應(yīng)該不會低于現(xiàn)款老型號的1.2億美元。
目前，ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數(shù)方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光125片晶圓。
另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了軟件升級。全新的DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:2050i已經(jīng)在三季度結(jié)束驗(yàn)證，四季度早期開始正式出貨。
據(jù)悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60臺光刻機(jī)收入，出貨了10臺EUV光刻機(jī)。
責(zé)編AJX
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
晶圓
+關(guān)注
關(guān)注
53文章
5449瀏覽量
132758 -
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1201瀏覽量
49018 -
AMSL
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
10瀏覽量
3373
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時代，不僅需要EUV光刻機(jī)
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問題？ 針對2nm、3nm芯片制造
壟斷 EUV 光刻機(jī)之后，阿斯麥劍指先進(jìn)封裝
能量產(chǎn) EUV 光刻機(jī)的廠商，早已憑借這一壟斷地位，深度綁定臺積電等頭部芯片制造商，左右著全球最先進(jìn) AI 芯片的產(chǎn)能與迭代節(jié)奏。如今，這家巨頭正跳出 EUV 的舒適區(qū)，將目光投向先進(jìn)封裝設(shè)備市場，以一場橫跨 10 至 15 年
光刻機(jī)的“精度錨點(diǎn)”：石英壓力傳感器如何守護(hù)納米級工藝
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)
國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
【「AI芯片：科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)
加工技術(shù)，。光刻機(jī)是光刻技術(shù)的核心設(shè)備，它的性能直接決定了芯片制造的良率和成本。
光刻技術(shù)的基本原理是利用光的照射將圖形轉(zhuǎn)移到光致抗?jié)釀┍∧ど稀?光
發(fā)表于 09-15 14:50
今日看點(diǎn)丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世；智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個機(jī)器人世界模型開源平臺
8nm，專攻量子芯片和新型半導(dǎo)體研發(fā)的核心環(huán)節(jié)，可通過高能電子束在硅基上手寫電路，無需掩膜版即可靈活修改設(shè)計，其精度已比肩國際主流設(shè)備。 ? 據(jù)介紹，與傳統(tǒng)光刻機(jī)相比，電子束光刻機(jī)在原型設(shè)計、快速迭代和小批量試制方面具有獨(dú)特優(yōu)勢。此前先
發(fā)表于 08-15 10:15
?3203次閱讀
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進(jìn)光刻機(jī)交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
發(fā)表于 08-13 09:41
?2580次閱讀
今日看點(diǎn)丨佳能再開新光刻機(jī)工廠；中國移動首款全自研光源芯片研發(fā)成功
? ? 時隔21年，佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前，據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報道，佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式，這也是佳能時隔21年開設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
發(fā)表于 08-05 10:23
?2323次閱讀
光刻機(jī)實(shí)例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備
光刻機(jī)
jf_90915507
發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57
佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠，主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng)，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2147次閱讀
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
評論