先進半導體應用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston? Impact 和 Aston? Plasma 是超緊湊型質(zhì)譜儀, 適用于先進半導體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析.

分子測量 快速，靈敏度達到十億分之一 檢測殘留氣體 / 冷凝物污染.

提高產(chǎn)量 提供化學特定的可操作見解, 盡可能地提高產(chǎn)量

提高安全性 監(jiān)測爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果.

Aston? 質(zhì)譜儀解決了關鍵的原位計量問題

? 提高吞吐量:端點檢測而不是基于時間的流程
? 提高產(chǎn)量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產(chǎn)物

Aston? 質(zhì)譜儀先進工藝的優(yōu)勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結構
耐腐蝕性氣體
堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應用中: 實時過程氣體監(jiān)控，以驅(qū)動自動化工具調(diào)整以實現(xiàn)過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現(xiàn)層的化學計量工程
蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點腔室清潔

Atonarp Aston? 技術參數(shù)

Aston? 質(zhì)譜儀半導體制造應用

審核編輯黃宇