來源：DIGITIMES ASIA

佳能預(yù)計其納米壓印光刻機將于今年出貨，與ASML的EVU設(shè)備競爭市場，因為世界各地的經(jīng)濟體都熱衷于擴大其本土芯片產(chǎn)能。

佳能董事長兼首席執(zhí)行官Hiroaki Takeishi向英國《金融時報》表示，公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C，并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數(shù)。

佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同，納米壓印光刻不需要光源，利用簡單的原理形成電路，只需將電路圖案掩模轉(zhuǎn)移到晶圓表面涂覆的抗蝕劑上即可。此外，納米壓印光刻技術(shù)可以一次形成復(fù)雜的二維和三維圖案，與先進的邏輯曝光技術(shù)相比，功耗可降低約十分之一。

Takeishi表示，佳能并不打算從（ASML的）EUV中搶奪市場份額，公司相信多種光刻技術(shù)可以共存，為行業(yè)的整體增長做出貢獻。

Ansforce首席執(zhí)行官Jeff Chu表示，由于目前大容量NAND閃存采用3D堆疊結(jié)構(gòu)，更適合納米壓印光刻。Bits & Chips報道稱，SK海力士和Kioxia多年來一直在測試佳能的納米壓印光刻機。盡管如此，SK海力士在2023年5月表示，納米壓印光刻技術(shù)的引入可能或商業(yè)化尚未討論。

采用該技術(shù)制造的芯片的良率還有待觀察。英國《金融時報》援引分析師的話稱，良率必須接近90%才能與ASML的技術(shù)競爭。Radio Free Mobile的創(chuàng)始人Richard Windsor表示，如果這項技術(shù)真的更先進的話，那么它現(xiàn)在就已經(jīng)投入運行，并大量投放市場了。

Takeishi告訴英國《金融時報》，佳能已經(jīng)基本解決了這個問題。然而，由于現(xiàn)有的芯片制造工藝是針對EUV進行優(yōu)化的，因此引入新技術(shù)會遇到各種困難。

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審核編輯 黃宇