NVIDIA 于今日宣布,為加快下一代先進半導體芯片的制造速度并克服物理限制,TSMC 和 Synopsys 將在生產(chǎn)中使用 NVIDIA 計算光刻平臺。
全球領先的晶圓廠 TSMC 與硅片到系統(tǒng)設計解決方案領域的領先企業(yè) Synopsys 已將 NVIDIA cuLitho 集成到其軟件、制造工藝和系統(tǒng)中,在加速芯片制造速度的同時,也加快了對未來最新一代 NVIDIA Blackwell 架構 GPU 的支持。
NVIDIA 創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官黃仁勛表示:計算光刻技術是芯片制造的基石。我們與 TSMC 和 Synopsys 圍繞 cuLitho 展開合作,通過加速計算和生成式 AI 為半導體微縮開辟了新的方向。
NVIDIA 還推出了能夠增強 GPU 加速計算光刻軟件庫 cuLitho 的全新生成式 AI 算法。與當前基于 CPU 的方法相比,新方法大幅改進了半導體制造工藝。
審核編輯:劉清
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原文標題:GTC24 | TSMC 和 Synopsys 將 NVIDIA 開創(chuàng)性計算光刻平臺投入生產(chǎn)
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