憑借在隔離技術(shù)領域的長期耕耘，納芯微今日宣布推出基于電容隔離技術(shù)的全新固態(tài)繼電器產(chǎn)品NSI7258系列，該系列提供工規(guī)和車規(guī)版本。NSI7258專門為高壓測量和絕緣監(jiān)測而設計，提供業(yè)內(nèi)領先的耐壓能力和EMI性能，可幫助提高工業(yè)BMS，光儲充，新能源汽車BMS和OBC等高壓系統(tǒng)的可靠性和穩(wěn)定性。

圖源：納芯微

集成SiC MOSFET，支持1700V耐壓

無論是在工業(yè)還是汽車領域，高壓系統(tǒng)正在變得越來越普遍，為了適配工業(yè)和汽車平臺高壓化的趨勢，NSI7258以背靠背的形式集成了2顆納芯微參與研發(fā)的SiC MOSFET，每顆支持高達1700V的耐壓；在1分鐘的標準雪崩測試中，NSI7258可耐受2100V的雪崩電壓和1mA的雪崩電流，實現(xiàn)業(yè)內(nèi)領先的耐壓和抗雪崩能力。于此同時，在1000V高壓，125℃高溫的測試條件下，NSI7258的漏電流可以控制在1μA以內(nèi)，極大提高了BMS系統(tǒng)中電池包的絕緣阻抗和檢測精度，有助于實現(xiàn)更安全的人機交互。

滿足各類安規(guī)要求，降低系統(tǒng)驗證時間

高壓化應用的普及需滿足各類嚴苛的安規(guī)要求。通過納芯微自有的專利技術(shù)，NSI7258可在SOW12封裝下實現(xiàn)業(yè)內(nèi)領先的5.91mm副邊爬電距離，同時原邊副邊爬電距離也達到8mm，滿足國際電工委員會制定的IEC60747-17要求。此外，憑借納芯微卓越的電容隔離技術(shù)，NSI7258的隔離耐壓能力高達5kVrms，全面滿足UL、CQC和VDE相關認證，可降低客戶系統(tǒng)驗證時間，加速產(chǎn)品上市。

EMI顯著優(yōu)化，加速光耦繼電器替換

傳統(tǒng)的光耦繼電器方案存在光衰問題，其性能會隨著時間的推移而退化，但光耦繼電器的優(yōu)勢是無電磁干擾問題，這也是限制高壓系統(tǒng)中光耦替代的重要因素之一。納芯微NSI7258通過巧妙的設計，實現(xiàn)了業(yè)內(nèi)卓越的EMI表現(xiàn)，在單板無磁珠的條件下即可輕松通過CISPR25 Class 5測試，并且在全頻段測試中均留有充足裕量。NSI7258基于全半導體工藝進行生產(chǎn)，在長期使用中具有更高的可靠性。卓越的EMI表現(xiàn)和更高的可靠性支持客戶在系統(tǒng)中同時采用多顆器件而不受影響，顯著降低了設計難度，助力客戶在系統(tǒng)設計中加速光耦替換。

封裝和選型

NSI7258提供SOW12封裝，兼容市場主流的光耦繼電器。工規(guī)版本的NSI7258將于近期量產(chǎn)，車規(guī)版本的NSI7258-Q1滿足AEC-Q100，Grade 1要求，支持–40°C~125°C的寬工作溫度范圍，將于2024年7月量產(chǎn)。NSI7258和NSI7258-Q1現(xiàn)已支持送樣，可聯(lián)系銷售團隊(sales@novosns.com)進行樣片申請。

審核編輯 黃宇