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一文匯總2018年全球光刻機(jī)出貨情況

集成電路園地 ? 來(lái)源:陳翠 ? 2019-02-21 17:03 ? 次閱讀
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根據(jù)芯思想研究院的數(shù)據(jù)表明,2018年全球***出貨逾600臺(tái),較2017年的460臺(tái)增幅達(dá)30%。

一文匯總2018年全球***出貨情況

一文匯總2018年全球***出貨情況

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導(dǎo)體用***出貨374臺(tái),較2017年的294臺(tái)增加80臺(tái),增長(zhǎng)27.21%。

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭***總營(yíng)收118.92億歐元,較2017年增長(zhǎng)25.21%。

從EUV、ArFi、ArF機(jī)型的出貨來(lái)看,全年共出貨134臺(tái)。其中ASML出貨120臺(tái),占有9成的市場(chǎng)。

ASML

2018年ASML***出貨224臺(tái),營(yíng)收達(dá)82.76億歐元,較2017年成長(zhǎng)35.74%。其中EUV***營(yíng)收達(dá)18.86億歐元,較2017年增加7.85億歐元。

2018年ASML共出貨224臺(tái)***,較2017年198年增加26臺(tái),增長(zhǎng)13.13%。其中EUV***出貨18臺(tái),較2017年增加7臺(tái);ArFi***出貨86臺(tái),較2017年增加10臺(tái);ArF***出貨16臺(tái),較2017年增加2臺(tái);KrF***出貨78臺(tái),增加7臺(tái);i-line***出貨26臺(tái),和2017年持平。

2018年單臺(tái)EUV平均售價(jià)1.04億歐元,較2017年單臺(tái)平均售價(jià)增長(zhǎng)4%。而在2018年一季度和第四季的售價(jià)更是高達(dá)1.16億歐元。

目前全球知名廠商包括英特爾Intel、三星Samsung、臺(tái)積電TSMC、SK海力士SK Hynix、聯(lián)電UMC、格芯GF、中芯國(guó)際SMIC、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。

2018年中國(guó)已經(jīng)進(jìn)口多臺(tái)ArFi***,包括長(zhǎng)江存儲(chǔ)、華力微二期。

Nikon

2018年度(非財(cái)年),Nikon***出貨106臺(tái),營(yíng)收達(dá)20.66億歐元,較2017年成長(zhǎng)25.29%。

2018年度,Nikon半導(dǎo)體用***出貨36臺(tái),比2017年度增加9臺(tái),增長(zhǎng)33.33%。其中ArFi***出貨5臺(tái),較2017年度減少1臺(tái);ArF***出貨9臺(tái),較2017年度增加1臺(tái);KrF***出貨5臺(tái),較2017年度增加3臺(tái);i-line***出貨17臺(tái),較2017年度增加6臺(tái)。

2018年度,Nikon半導(dǎo)體用***出貨36臺(tái)中,其中全新機(jī)臺(tái)出貨19臺(tái),翻新機(jī)臺(tái)出貨17臺(tái)。

2018年度,Nikon面板(FPD)用***出貨70臺(tái)。

Canon

2018年Canon***出貨183臺(tái),營(yíng)收達(dá)15.5億歐元,較2017年微增1.6%。

2018年Canon半導(dǎo)體用***出貨達(dá)114臺(tái),較2017年增加44臺(tái),增長(zhǎng)62.85%。但是主要是i-line、KrF兩個(gè)低端機(jī)臺(tái)出貨。

2018年全年面板(FPD)用***出貨69臺(tái)。

其他***公司

上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限***主要用于廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD、MEMSLED、功率器件等制造領(lǐng)域,2018年出貨大概在50-60臺(tái)之間。

德國(guó)SUSS***主要用于半導(dǎo)體集成電路先進(jìn)封裝、MEMS、LED,2018年***收入約1.2億歐元,較2017年增長(zhǎng)約7個(gè)百分點(diǎn)。

ASML公司EUV進(jìn)展

2018年,ASML和IMEC建設(shè)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室,目標(biāo)一是加速EUV技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn);二是實(shí)驗(yàn)以0.55 NA取代目前的0.33 NA,具有更高NA的EUV微影系統(tǒng)能將EUV光源投射到較大角度的晶圓,從而提高分辨率,并且實(shí)現(xiàn)更小的特征尺寸。

2019年下半年,ASML將推出每小時(shí)吞吐量為170片的EUV新機(jī)型NXE:3400C;2021年將推出0.55 NA的新機(jī)型EXE:5000,可用于2納米生產(chǎn)。

ASML預(yù)估2019年全年將出貨30臺(tái)EUV***,據(jù)悉DRAM公司也將于2019年開始采用EUV***制造。

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原文標(biāo)題:2018年全球光刻機(jī)出貨情況

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