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DRAM大廠工藝推進1z納米 導入EUV設備擴大競爭門檻

MZjJ_DIGITIMES ? 來源:YXQ ? 2019-06-21 16:43 ? 次閱讀
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2019年上半DRAM價格下跌壓力沉重,盡管上游產能調節(jié)以及傳統(tǒng)旺季拉貨需求逐漸回升,預料將有望支撐跌價趨緩,為了提高生產效益及拉大競爭差距,DRAM大廠競相推進下一代制程技術。

三星電子(Samsung Electronics)率先表示將在2019年11月量產采用EUV技術的1z納米DRAM,美光(Micron)、SK海力士(SK Hynix)也透露將考慮評估EUV設備的需求,隨著上億美元等級的EUV設備導入,將意味著10納米級DRAM制程競賽升溫,產業(yè)投資規(guī)模門檻將大幅攀高。

隨著DRAM報價直直滑落,供應鏈業(yè)者向華強旗艦記者透露,第2季底顆粒報價已經逼近制造原廠的成本邊緣,中小型廠商維持獲利的難度大增,盡管市況及需求并未明顯回升,但跌價壓力的陰霾籠罩下,驅使著業(yè)界勢必更積極追求降低單位生產成本,國際三大DRAM廠三星、SK海力士、美光投入10納米級DRAM制程升級的進度將不容延緩。

目前DRAM制造成本取得領先優(yōu)勢的三星曾指出,1z納米DRAM在不使用EUV設備下,也能比目前1y DRAM的產能提高20%,9月起啟動1z納米DRAM量產進度;不過近期進一步透露,將于2019年11月開始量產采用EUV技術的1z納米DRAM,而量產初期將與三星晶圓代工共享EUV設備。

除了晶圓代工邏輯制程采用EUV微影技術成為趨勢,包括臺積電、三星在7nm開始采用EUV技術后,三星計劃擴大應用至DRAM制程,初期的使用量不大,預計將在華城17產線與晶圓代工事業(yè)部共享EUV設備的方式進行,之后平澤工廠也會啟動EUV DRAM量產,宣示三星導入DRAM制程會開始走向EUV 技術發(fā)展。

SK海力士在南韓的利川市新建的DRAM生產工廠中,研發(fā)內含EUV技術的DRAM存儲器生產技術,并表明現(xiàn)階段開始評估導入EUV技術的需求。SK海力士在2019年起投入1y納米制程DRAM量產,下一目標就是升級1z納米轉換制程,業(yè)界估計,SK海力士10納米級DRAM制程比重,在2019年將占所有DRAM產品的半數(shù)以上。

據(jù)華強旗艦了解:美光也在2019年上半宣布DRAM技術走向1z納米制程發(fā)展,日本廣島廠已經量產1y納米制程,并將于年底開始量產1z納米LPDDR4,下一階段將推進至1α 納米或 1β 納米世代。至于***產線在2019年下半將導入1y制程量產,相關技術轉移已經準備就緒,2020年也會跟進至1z納米制程,透過技術升級達到每年雙位數(shù)的晶圓位元成長。

雖然美光在2018年曾提過,即使到了 1α及1β的制程技術節(jié)點,也沒有使用EUV技術的必要性,不過近期美光態(tài)度出現(xiàn)轉變,并表示從進入1z納米之后將會持續(xù)評估采用EUV技術的DRAM成本效益,不排除在合適時間點導入EUV設備。美光的轉變被認為與2019年DRAM價格大跌,產品利潤受到擠壓,必須藉由提高性能與降低單位成本來鞏固產業(yè)競爭力。

業(yè)界指出,相較于過去20納米制程時期,每次升級到新一代制程的晶圓位元成長率將可以提升50%以上,2年就可以翻倍成長。不過隨著難度越來越高,如今的晶圓位元成長的幅度也無法像過去一樣,但仍有超過30%以上提升,但在進入1z納米制程后,藉由EUV技術導入,將意味采購高達上億美元的設備,其投資規(guī)模也愈加擴大,要維持每年提升1個制程世代的進度也將面臨考驗。

原本業(yè)界預期在18納米制程之后,DRAM廠商將開始采用EUV技術,但每臺價格高達約1億美元的EUV設備,確實令DRAM廠商感到躊躇不前,2019年DRAM市況轉趨低迷,價格競爭導致降低生產成本壓力遽增,促使DRAM大廠寄望透過采用 EUV 技術以生產DRAM先進制程,預料將有助于提高微影精度、減小線寬以及降低存儲器單位容量成本

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原文標題:?【進展】DRAM大廠工藝推進1z納米 導入EUV設備擴大競爭門檻

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