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KRi 射頻離子源應(yīng)用于國產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD
上海伯東客戶某高校使用國產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機(jī)用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個(gè)小時(shí)就會(huì)燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, ...
上海伯東大口徑射頻離子源成功應(yīng)用于12英寸IBE 離子束蝕刻機(jī)
上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實(shí)現(xiàn)...
美國 KRi 考夫曼離子源應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng)
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實(shí)現(xiàn)小規(guī)模試驗(yàn)中 2-4 英寸硅片等半導(dǎo)體襯底表面的清潔, ...
美國KRi 離子源光通信應(yīng)用, 助力5G技術(shù)發(fā)展
光通信的信息載體是光波,?為了進(jìn)一步提高光通信系統(tǒng)中光信號(hào)的傳輸質(zhì)量,?滿足光通信系統(tǒng)的使用要求,??上海伯東美國 KRi 離子源通過離子束濺射, 輔助...
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設(shè)備, 實(shí)現(xiàn)離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束...
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